搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

快速热退火和氢等离子体处理对富硅氧化硅薄膜微结构与发光的影响

王永谦 陈维德 陈长勇 刁宏伟 张世斌 徐艳月 孔光临 廖显伯

引用本文:
Citation:

快速热退火和氢等离子体处理对富硅氧化硅薄膜微结构与发光的影响

王永谦, 陈维德, 陈长勇, 刁宏伟, 张世斌, 徐艳月, 孔光临, 廖显伯

Wang Yong-Qian, Chen Wei-De, Chen Chang-Yong, Diao Hong-Wei, Zhang Shi-Ben, Xu Yan-Yue, Kong Guang-Lin, Liao Xian-Bo
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  8088
  • PDF下载量:  741
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2001-09-12
  • 修回日期:  2001-12-19
  • 刊出日期:  2005-05-30

/

返回文章
返回
Baidu
map