[1] |
王铄, 王文辉, 吕俊鹏, 倪振华. 化学气相沉积法制备大面积二维材料薄膜: 方法与机制.
,
2021, 70(2): 026802.
doi: 10.7498/aps.70.20201398
|
[2] |
陈桢妮, 刘胜利, 王海云, 程杰. Gd掺杂对无氟金属有机物沉积法制备Y1-xGdxBCO薄膜的应力调控.
,
2017, 66(15): 156101.
doi: 10.7498/aps.66.156101
|
[3] |
杨云畅, 武斌, 刘云圻. 双层石墨烯的化学气相沉积法制备及其光电器件.
,
2017, 66(21): 218101.
doi: 10.7498/aps.66.218101
|
[4] |
李忠辉, 罗伟科, 杨乾坤, 李亮, 周建军, 董逊, 彭大青, 张东国, 潘磊, 李传皓. 金属有机物化学气相沉积同质外延GaN薄膜表面形貌的改善.
,
2017, 66(10): 106101.
doi: 10.7498/aps.66.106101
|
[5] |
王彬, 冯雅辉, 王秋实, 张伟, 张丽娜, 马晋文, 张浩然, 于广辉, 王桂强. 化学气相沉积法制备的石墨烯晶畴的氢气刻蚀.
,
2016, 65(9): 098101.
doi: 10.7498/aps.65.098101
|
[6] |
王保柱, 张秀清, 张奥迪, 周晓然, Bahadir Kucukgok, Na Lu, 肖红领, 王晓亮, Ian T. Ferguson. 金属有机物化学气相沉积生长GaN薄膜的室温热电特性研究.
,
2015, 64(4): 047202.
doi: 10.7498/aps.64.047202
|
[7] |
韩林芷, 赵占霞, 马忠权. 化学气相沉积法制备大尺寸单晶石墨烯的工艺参数研究.
,
2014, 63(24): 248103.
doi: 10.7498/aps.63.248103
|
[8] |
王浪, 冯伟, 杨连乔, 张建华. 化学气相沉积法制备石墨烯的铜衬底预处理研究.
,
2014, 63(17): 176801.
doi: 10.7498/aps.63.176801
|
[9] |
朱顺明, 顾然, 黄时敏, 姚峥嵘, 张阳, 陈斌, 毛昊源, 顾书林, 叶建东, 郑有炓. 金属有机源化学气相沉积法生长氧化锌薄膜中氢气的作用及其机理.
,
2014, 63(11): 118103.
doi: 10.7498/aps.63.118103
|
[10] |
吴亮亮, 赵德刚, 李亮, 乐伶聪, 陈平, 刘宗顺, 江德生. 金属有机化学气相沉积法生长条件对AlN薄膜面内晶粒尺寸的影响.
,
2013, 62(8): 086102.
doi: 10.7498/aps.62.086102
|
[11] |
彭静, 徐智谋, 王双保, 董泽华. 非晶钛酸锶钡薄膜的金属有机分解法制备及其光学性能.
,
2011, 60(5): 057702.
doi: 10.7498/aps.60.057702
|
[12] |
邢海英, 范广涵, 杨学林, 张国义. 金属有机化学气相淀积技术制备GaMnN薄膜材料光学性质研究.
,
2010, 59(1): 504-507.
doi: 10.7498/aps.59.504
|
[13] |
杨帆, 马瑾, 孔令沂, 栾彩娜, 朱振. 金属有机物化学气相沉积法生长Ga2(1-x)In2xO3薄膜的结构及光电性能研究.
,
2009, 58(10): 7079-7082.
doi: 10.7498/aps.58.7079
|
[14] |
韩道丽, 赵元黎, 赵海波, 宋天福, 梁二军. 化学气相沉积法制备定向碳纳米管阵列.
,
2007, 56(10): 5958-5964.
doi: 10.7498/aps.56.5958
|
[15] |
杨杭生. 等离子体增强化学气相沉积法制备立方氮化硼薄膜过程中的表面生长机理.
,
2006, 55(8): 4238-4246.
doi: 10.7498/aps.55.4238
|
[16] |
吴贵斌, 叶志镇, 赵 星, 刘国军, 赵炳辉. 金属诱导生长与超高真空化学气相沉积方法相结合制备多晶锗硅薄膜.
,
2006, 55(7): 3756-3759.
doi: 10.7498/aps.55.3756
|
[17] |
马 宏, 朱光喜, 陈四海, 易新建. 金属有机化学气相外延生长1310nm偏振无关混合应变量子阱半导体光放大器研究.
,
2004, 53(12): 4257-4261.
doi: 10.7498/aps.53.4257
|
[18] |
闫小琴, 刘祖琴, 唐东升, 慈立杰, 刘东方, 周振平, 梁迎新, 袁华军, 周维亚, 王 刚. 衬底对化学气相沉积法制备氧化硅纳米线的影响.
,
2003, 52(2): 454-458.
doi: 10.7498/aps.52.454
|
[19] |
张永平, 顾有松, 高鸿钧, 张秀芳. 微波等离子体化学气相沉积法制备C3N4薄膜的结构研究.
,
2001, 50(7): 1396-1400.
doi: 10.7498/aps.50.1396
|
[20] |
王冠中, 叶 峰, 常 超, 章应辉, 方容川. 化学气相沉积法制备金刚石膜截面微区Raman分析.
,
1999, 48(12): 2382-2388.
doi: 10.7498/aps.48.2382
|