| [1] |
王艺琳, 兰自轩, 杜汇伟, 赵磊, 马忠权. 重掺杂多晶硅薄膜中磷氧化物的探究.
,
2022, 71(18): 188201.
doi: 10.7498/aps.71.20220706
|
| [2] |
王健, 揣荣岩. p型多晶硅薄膜应变因子与掺杂浓度关系理论研究.
,
2017, 66(24): 247201.
doi: 10.7498/aps.66.247201
|
| [3] |
周海亮, 顾庆天, 张清华, 刘宝安, 朱丽丽, 张立松, 张芳, 许心光, 王正平, 孙洵, 赵显. NH4H2PO4和ND4D2PO4晶体微结构的拉曼光谱研究.
,
2015, 64(19): 197801.
doi: 10.7498/aps.64.197801
|
| [4] |
张海龙, 刘丰珍, 朱美芳. 化学气相沉积中影蔽效应对硅薄膜表面形貌和微结构的影响.
,
2014, 63(17): 177303.
doi: 10.7498/aps.63.177303
|
| [5] |
姜丽丽, 路忠林, 张凤鸣, 鲁雄. 低温退火磷吸杂工艺对低少子寿命铸造多晶硅电性能的影响.
,
2013, 62(11): 110101.
doi: 10.7498/aps.62.110101
|
| [6] |
苏元军, 徐军, 朱明, 范鹏辉, 董闯. 利用等离子体辅助脉冲磁控溅射实现多晶硅薄膜的低温沉积.
,
2012, 61(2): 028104.
doi: 10.7498/aps.61.028104
|
| [7] |
唐正霞, 沈鸿烈, 江丰, 方茹, 鲁林峰, 黄海宾, 蔡红. 变温退火制备铝诱导大晶粒多晶硅薄膜的机理研究.
,
2010, 59(12): 8770-8775.
doi: 10.7498/aps.59.8770
|
| [8] |
刘莉莹, 张家良, 郭卿超, 王德真. 大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断.
,
2010, 59(4): 2653-2660.
doi: 10.7498/aps.59.2653
|
| [9] |
刘召军, 孟志国, 赵淑云, 郭海成, 吴春亚, 熊绍珍. 用镍硅氧化物源横向诱导晶化的多晶硅薄膜.
,
2010, 59(4): 2775-2782.
doi: 10.7498/aps.59.2775
|
| [10] |
罗翀, 孟志国, 王烁, 熊绍珍. 溶液法铝诱导晶化制备多晶硅薄膜.
,
2009, 58(9): 6560-6565.
doi: 10.7498/aps.58.6560
|
| [11] |
黄 锐, 林璇英, 余云鹏, 林揆训, 祝祖送, 魏俊红. 氢稀释对多晶硅薄膜结构特性和光学特性的影响.
,
2006, 55(5): 2523-2528.
doi: 10.7498/aps.55.2523
|
| [12] |
祁 菁, 金 晶, 胡海龙, 高平奇, 袁保和, 贺德衍. H2对Ar稀释SiH4等离子体CVD制备多晶硅薄膜的影响.
,
2006, 55(11): 5959-5963.
doi: 10.7498/aps.55.5959
|
| [13] |
祝祖送, 林璇英, 余云鹏, 林揆训, 邱桂明, 黄 锐, 余楚迎. 用SiCl4/H2气源沉积多晶硅薄膜光照稳定性的研究.
,
2005, 54(8): 3805-3809.
doi: 10.7498/aps.54.3805
|
| [14] |
黄 锐, 林璇英, 余云鹏, 林揆训, 姚若河, 黄文勇, 魏俊红, 王照奎, 余楚迎. 多晶硅薄膜低温生长中晶粒大小的控制.
,
2004, 53(11): 3950-3955.
doi: 10.7498/aps.53.3950
|
| [15] |
汪六九, 朱美芳, 刘丰珍, 刘金龙, 韩一琴. 热丝化学气相沉积技术低温制备多晶硅薄膜的结构与光电特性.
,
2003, 52(11): 2934-2938.
doi: 10.7498/aps.52.2934
|
| [16] |
张洪涛, 徐重阳, 邹雪城, 王长安, 赵伯芳, 周雪梅, 曾祥斌. 4H-SiC纳米薄膜的微结构及其光电性质研究.
,
2002, 51(2): 304-309.
doi: 10.7498/aps.51.304
|
| [17] |
辛煜, 宁兆元, 甘肇强, 陆新华, 方亮, 程珊华. 不同CHF3/CH4流量比下沉积a-C∶F∶H薄膜键结构的红外分析.
,
2001, 50(12): 2492-2496.
doi: 10.7498/aps.50.2492
|
| [18] |
贺德衍. 多晶硅薄膜低温生长中的表面反应控制.
,
2001, 50(4): 779-783.
doi: 10.7498/aps.50.779
|
| [19] |
张廷庆, 李建军, 刘家璐, 赵元富. BF+2注入多晶硅栅F迁移特性的分析与模拟.
,
1998, 47(4): 645-651.
doi: 10.7498/aps.47.645
|
| [20] |
何宇亮, 周衡南, 刘湘娜, 程光煦, 余是东. 非晶硅薄膜晶化过程中微结构的分析.
,
1990, 39(11): 1796-1802.
doi: 10.7498/aps.39.1796
|
下载:
