| [1] |
王甫, 周毅, 高士鑫, 段振刚, 孙志鹏, 汪俊, 邹宇, 付宝勤. 碳化硅中点缺陷对热传导性能影响的分子动力学研究.
,
2022, 71(3): 036501.
doi: 10.7498/aps.71.20211434
|
| [2] |
王甫, 周毅, 高士鑫, 段振刚, 孙志鹏, 汪俊(Jun Wang), 邹 宇, 付宝勤(Baoqin Fu). 碳化硅中点缺陷对热传导性能影响的分子动力学研究.
,
2021, (): .
doi: 10.7498/aps.70.20211434
|
| [3] |
张鸿, 郭红霞, 潘霄宇, 雷志峰, 张凤祁, 顾朝桥, 柳奕天, 琚安安, 欧阳晓平. 重离子在碳化硅中的输运过程及能量损失.
,
2021, 70(16): 162401.
doi: 10.7498/aps.70.20210503
|
| [4] |
鲁媛媛, 鹿桂花, 周恒为, 黄以能. 锂辉石/碳化硅复相陶瓷材料的制备与性能.
,
2020, 69(11): 117701.
doi: 10.7498/aps.69.20200232
|
| [5] |
李源, 石爱红, 陈国玉, 顾秉栋. 基于蒙特卡罗方法的4H-SiC(0001)面聚并台阶形貌演化机理.
,
2019, 68(7): 078101.
doi: 10.7498/aps.68.20182067
|
| [6] |
李媛媛, 喻寅, 孟川民, 张陆, 王涛, 李永强, 贺红亮, 贺端威. 金刚石-碳化硅超硬复合材料的冲击强度.
,
2019, 68(15): 158101.
doi: 10.7498/aps.68.20190350
|
| [7] |
申帅帅, 贺朝会, 李永宏. 质子在碳化硅中不同深度的非电离能量损失.
,
2018, 67(18): 182401.
doi: 10.7498/aps.67.20181095
|
| [8] |
宋久旭, 杨银堂, 郭立新, 王平, 张志勇. 反位缺陷对碳化硅纳米管电子结构和光学性质影响研究.
,
2012, 61(23): 237301.
doi: 10.7498/aps.61.237301
|
| [9] |
宋坤, 柴常春, 杨银堂, 贾护军, 陈斌, 马振洋. 改进型异质栅对深亚微米栅长碳化硅MESFET特性影响.
,
2012, 61(17): 177201.
doi: 10.7498/aps.61.177201
|
| [10] |
房超, 刘马林. 包覆燃料颗粒碳化硅层的Raman光谱研究.
,
2012, 61(9): 097802.
doi: 10.7498/aps.61.097802
|
| [11] |
周耐根, 洪涛, 周浪. MEAM势与Tersoff势比较研究碳化硅熔化与凝固行为.
,
2012, 61(2): 028101.
doi: 10.7498/aps.61.028101
|
| [12] |
黄维, 陈之战, 陈义, 施尔畏, 张静玉, 刘庆峰, 刘茜. 组合材料方法研究膜厚对Ni/SiC电极接触性质的影响.
,
2010, 59(5): 3466-3472.
doi: 10.7498/aps.59.3466
|
| [13] |
宋久旭, 杨银堂, 刘红霞, 张志勇. 掺氮碳化硅纳米管电子结构的第一性原理研究.
,
2009, 58(7): 4883-4887.
doi: 10.7498/aps.58.4883
|
| [14] |
刘福, 周继承, 谭晓超. 3C-SiC(001)-(2×1)表面原子与电子结构研究.
,
2009, 58(11): 7821-7825.
doi: 10.7498/aps.58.7821
|
| [15] |
韩 茹, 杨银堂, 柴常春. n-SiC的电子拉曼散射及二级拉曼谱研究.
,
2008, 57(5): 3182-3187.
doi: 10.7498/aps.57.3182
|
| [16] |
林 涛, 陈治明, 李 佳, 李连碧, 李青民, 蒲红斌. 6H碳化硅衬底上硅碳锗薄膜的生长特性研究.
,
2008, 57(9): 6007-6012.
doi: 10.7498/aps.57.6007
|
| [17] |
徐彭寿, 李拥华, 潘海斌. β-SiC(001)-(2×1)表面结构的第一性原理研究.
,
2005, 54(12): 5824-5829.
doi: 10.7498/aps.54.5824
|
| [18] |
于 威, 何 杰, 孙运涛, 朱海丰, 韩 理, 傅广生. 碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究.
,
2004, 53(6): 1930-1934.
doi: 10.7498/aps.53.1930
|
| [19] |
汤晓燕, 张义门, 张鹤鸣, 张玉明, 戴显英, 胡辉勇. 碳化硅基上3UCVD淀积二氧化硅及其C-V性能测试.
,
2004, 53(9): 3225-3228.
doi: 10.7498/aps.53.3225
|
| [20] |
王剑屏, 郝跃, 彭军, 朱作云, 张永华. 蓝宝石衬底上异质外延生长碳化硅薄膜的研究.
,
2002, 51(8): 1793-1797.
doi: 10.7498/aps.51.1793
|
下载:
