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BF2+注入多晶硅栅常规热退火氟迁移特性的二次离子质谱分析

刘家璐 张廷庆 李建军 赵元富

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BF2+注入多晶硅栅常规热退火氟迁移特性的二次离子质谱分析

刘家璐, 张廷庆, 李建军, 赵元富

SIMS ANALYSIS OF MIGRATION CHARACTERISTICS OF FLUORINE IN BF2+ IMPLANTED POLY-Si GATE UNDER CONVENTIONAL THERMAL ANNEALING

LIU JIA-LU, ZHANG TING-QING, LI JIAN-JUN, ZHAO YUAN-FU
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出版历程
  • 收稿日期:  1996-11-04
  • 刊出日期:  1997-04-05

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