| [1] |
马孟宇, 蔚翠, 何泽召, 郭建超, 刘庆彬, 冯志红. 氢终端金刚石薄膜生长及其表面结构.
,
2024, 73(8): 088101.
doi: 10.7498/aps.73.20240053
|
| [2] |
宋青, 权伟龙, 冯田均, 俄燕. CH基团与金刚石(111)面的碰撞反应及其对碳膜生长的影响.
,
2016, 65(3): 030701.
doi: 10.7498/aps.65.030701
|
| [3] |
刘峰斌, 陈文彬, 崔岩, 屈敏, 曹雷刚, 杨越. 活性质吸附氢修饰金刚石表面的第一性原理研究.
,
2016, 65(23): 236802.
doi: 10.7498/aps.65.236802
|
| [4] |
张传国, 杨勇, 郝汀, 张铭. 金刚石表面无定形碳氢薄膜生长的分子动力学模拟.
,
2015, 64(1): 018102.
doi: 10.7498/aps.64.018102
|
| [5] |
肖宏宇, 李尚升, 秦玉琨, 梁中翥, 张永胜, 张东梅, 张义顺. 高温高压下掺硼宝石级金刚石单晶生长特性的研究.
,
2014, 63(19): 198101.
doi: 10.7498/aps.63.198101
|
| [6] |
兰惠清, 徐藏. 掺硅类金刚石薄膜摩擦过程的分子动力学模拟.
,
2012, 61(13): 133101.
doi: 10.7498/aps.61.133101
|
| [7] |
王培君, 江美福, 杜记龙, 戴永丰. 射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究.
,
2010, 59(12): 8920-8926.
doi: 10.7498/aps.59.8920
|
| [8] |
刘以良, 孔凡杰, 杨缤维, 蒋 刚. 金刚石延(111)面生长的第一性原理研究.
,
2007, 56(9): 5413-5417.
doi: 10.7498/aps.56.5413
|
| [9] |
杨杭生, 谢英俊. 立方氮化硼薄膜生长过程中的界面控制.
,
2007, 56(9): 5400-5407.
doi: 10.7498/aps.56.5400
|
| [10] |
马天宝, 胡元中, 王 慧. 基于原子运动模型的类金刚石薄膜生长机理研究.
,
2007, 56(1): 480-486.
doi: 10.7498/aps.56.480
|
| [11] |
胡晓君, 李荣斌, 沈荷生, 何贤昶, 邓 文, 罗里熊. 掺杂金刚石薄膜的缺陷研究.
,
2004, 53(6): 2014-2018.
doi: 10.7498/aps.53.2014
|
| [12] |
江美福, 宁兆元. 反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的XPS结构研究.
,
2004, 53(9): 3220-3224.
doi: 10.7498/aps.53.3220
|
| [13] |
邱东江, 石成儒, 吴惠桢. 石英衬底上生长的高光学质量的纳米金刚石薄膜.
,
2002, 51(8): 1870-1874.
doi: 10.7498/aps.51.1870
|
| [14] |
李灿华, 廖 源, 常 超, 王冠中, 方容川. 氮气氛下(100)织构金刚石薄膜的成核与生长研究.
,
2000, 49(9): 1756-1763.
doi: 10.7498/aps.49.1756
|
| [15] |
韩祀瑾, 陈金松, 方容川, 尚乃贵, 邵庆益, 乐德芬, 廖 源, 叶祉渊, 易 波, 崔景彪. 金刚石薄膜在多晶铜和磷脱氧铜基片上的生长.
,
1998, 47(4): 686-691.
doi: 10.7498/aps.47.686
|
| [16] |
陈光华, 张兴旺, 季亚英, 严辉. 金属与金刚石薄膜接触的电学特性研究.
,
1997, 46(6): 1188-1192.
doi: 10.7498/aps.46.1188
|
| [17] |
顾长志, 金曾孙, 吕宪义, 邹广田, 张纪法, 方容川. 高导热金刚石薄膜的研究.
,
1997, 46(10): 1984-1989.
doi: 10.7498/aps.46.1984
|
| [18] |
张亚菲, 陈光华. 化学汽相沉积金刚石生长表面氢原子覆盖率的研究.
,
1996, 45(3): 539-544.
doi: 10.7498/aps.45.539
|
| [19] |
张文军, 韩立, 胡博, 涨仿清, 陈光华. 织构金刚石薄膜的成核与生长.
,
1996, 45(1): 88-93.
doi: 10.7498/aps.45.88
|
| [20] |
毛敏耀, 亢昌军, 王添平, 解健芳, 谭淞生, 王渭源, 章熙康, 金晓峰, 庄志诚. 金刚石薄膜的光学透射率研究.
,
1995, 44(9): 1509-1515.
doi: 10.7498/aps.44.1509
|
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