[1] |
白刚, 韩宇航, 高存法. (111)取向无铅K0.5Na0.5NbO3外延薄膜的相变和电卡效应: 外应力与错配应变效应.
,
2022, 71(9): 097701.
doi: 10.7498/aps.71.20220234
|
[2] |
白刚, 林翠, 刘端生, 许杰, 李卫, 高存法. 取向相关的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3外延薄膜的相图和介电性能.
,
2021, 70(12): 127701.
doi: 10.7498/aps.70.20202164
|
[3] |
赵世平, 张鑫, 刘智慧, 王全, 王华林, 姜薇薇, 刘超前, 王楠, 刘世民, 崔云先, 马艳平, 丁万昱, 巨东英. 低能氨离子/基团扩散对铟锡氧化物薄膜电学性质的影响规律.
,
2020, 69(23): 236801.
doi: 10.7498/aps.69.20200860
|
[4] |
佘彦超, 张蔚曦, 王应, 罗开武, 江小蔚. 氧空位缺陷对PbTiO3铁电薄膜漏电流的调控.
,
2018, 67(18): 187701.
doi: 10.7498/aps.67.20181130
|
[5] |
王歆钰, 储瑞江, 魏胜男, 董正超, 仲崇贵, 曹海霞. 应力作用下EuTiO3铁电薄膜电热效应的唯象理论研究.
,
2015, 64(11): 117701.
doi: 10.7498/aps.64.117701
|
[6] |
朱勇, 李宝华, 谢国锋. 质子对BaTiO3薄膜辐照损伤的计算机模拟.
,
2012, 61(4): 046103.
doi: 10.7498/aps.61.046103
|
[7] |
吕业刚, 梁晓琳, 谭永宏, 郑学军, 龚跃球, 何林. 微结构对Eu掺杂Bi4Ti3O12铁电薄膜铁电性能的影响.
,
2011, 60(2): 027701.
doi: 10.7498/aps.60.027701
|
[8] |
朱杰, 张辉, 张鹏翔, 谢康, 胡俊涛. Pb(Zr0.3Ti0.7)O3铁电薄膜激光感生电压效应.
,
2010, 59(9): 6417-6422.
doi: 10.7498/aps.59.6417
|
[9] |
傅兴海, 尹伊, 张磊, 叶辉. 择优取向MgO在Si衬底上的直流溅射制备及其性能表征.
,
2009, 58(7): 5007-5012.
doi: 10.7498/aps.58.5007
|
[10] |
王龙海, 于 军, 王耘波, 高峻雄, 赵素玲. PbTiO3/PbZr0.3Ti0.7O3/PbTiO3夹心结构铁电薄膜子晶层的优化.
,
2008, 57(2): 1207-1213.
doi: 10.7498/aps.57.1207
|
[11] |
李 微, 敖建平, 何 青, 刘芳芳, 李凤岩, 李长健, 孙 云. 衬底对Cu(In, Ga)Se2薄膜织构的影响.
,
2007, 56(8): 5009-5012.
doi: 10.7498/aps.56.5009
|
[12] |
王英龙, 魏同茹, 刘保亭, 邓泽超. 外延PbZr0.4Ti0.6O3薄膜厚度对其铁电性能的影响.
,
2007, 56(5): 2931-2936.
doi: 10.7498/aps.56.2931
|
[13] |
徐晓明, 王 娟, 赵 阳, 张庆瑜. 界面和择优取向对TiN/ZrN纳米多层膜硬度变化的影响.
,
2006, 55(10): 5380-5385.
doi: 10.7498/aps.55.5380
|
[14] |
方 洪, 孙 慧, 朱 骏, 毛翔宇, 陈小兵. 溶胶-凝胶法制备Sr2Bi4Ti5O18薄膜及其铁电性能研究.
,
2006, 55(6): 3086-3090.
doi: 10.7498/aps.55.3086
|
[15] |
王 华, 任鸣放. Si基Bi3.25La0.75Ti3O12铁电薄膜的制备与特性研究.
,
2006, 55(6): 3152-3156.
doi: 10.7498/aps.55.3152
|
[16] |
郑分刚, 陈建平, 李新碗. (111)择优取向的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜的制备及研究.
,
2006, 55(6): 3067-3072.
doi: 10.7498/aps.55.3067
|
[17] |
李建康, 姚 熹. 不同衬底上Pb(Zr0.52Ti0.48)O3择优取向铁电薄膜的制备和研究.
,
2005, 54(6): 2938-2944.
doi: 10.7498/aps.54.2938
|
[18] |
潘梦霄, 曹兴忠, 李养贤, 王宝义, 薛德胜, 马创新, 周春兰, 魏 龙. 氧化钒薄膜微观结构的研究.
,
2004, 53(6): 1956-1960.
doi: 10.7498/aps.53.1956
|
[19] |
王华. Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜的制备与特性研究.
,
2004, 53(4): 1265-1270.
doi: 10.7498/aps.53.1265
|
[20] |
曹晓燕, 叶 辉, 邓年辉, 郭 冰, 顾培夫. 高择优取向硅基含钾铌酸锶钡(K:SBN)薄膜的制备与性能.
,
2004, 53(7): 2363-2367.
doi: 10.7498/aps.53.2363
|