[1] |
张结印, 高飞, 张建军. 硅和锗量子计算材料研究进展.
,
2021, 70(21): 217802.
doi: 10.7498/aps.70.20211492
|
[2] |
郭辉, 路红亮, 黄立, 王雪艳, 林晓, 王业亮, 杜世萱, 高鸿钧. 金属衬底上高质量大面积石墨烯的插层及其机制.
,
2017, 66(21): 216803.
doi: 10.7498/aps.66.216803
|
[3] |
曾湘安, 艾斌, 邓幼俊, 沈辉. 硅片及其太阳电池的光衰规律研究.
,
2014, 63(2): 028803.
doi: 10.7498/aps.63.028803
|
[4] |
周耐根, 胡秋发, 许文祥, 李克, 周浪. 硅熔化特性的分子动力学模拟–-不同势函数的对比研究.
,
2013, 62(14): 146401.
doi: 10.7498/aps.62.146401
|
[5] |
李保家, 周明, 张伟. 贴膜条件下飞秒激光诱导硅基表面锥状微结构.
,
2012, 61(23): 237901.
doi: 10.7498/aps.61.237901
|
[6] |
兰惠清, 徐藏. 掺硅类金刚石薄膜摩擦过程的分子动力学模拟.
,
2012, 61(13): 133101.
doi: 10.7498/aps.61.133101
|
[7] |
曹思, 龚佳, 钟澄, 李劲, 蒋益明. 同位素示踪法研究铜薄膜在水汽中的氧化传质机理.
,
2011, 60(7): 078101.
doi: 10.7498/aps.60.078101
|
[8] |
刘新国, 孙海竹, 刘会荣, 张庆刚. O++H2及其同位素取代反应的立体动力学研究.
,
2010, 59(11): 7796-7802.
doi: 10.7498/aps.59.7796
|
[9] |
袁春华, 李晓红, 唐多昌, 杨宏道, 李国强. Nd:YAG纳秒激光诱导硅表面微结构的演化.
,
2010, 59(10): 7015-7019.
doi: 10.7498/aps.59.7015
|
[10] |
孔浩, 刘新国, 许文武, 梁景娟, 张庆刚. He+H+2及其同位素取代反应的立体动力学研究.
,
2009, 58(10): 6926-6931.
doi: 10.7498/aps.58.6926
|
[11] |
刘兴翀, 陆智海, 路忠林, 张凤鸣, 都有为. 多晶Si0.9654Mn0.0346:B薄膜的磁性研究.
,
2008, 57(11): 7262-7266.
doi: 10.7498/aps.57.7262
|
[12] |
唐欣欣, 罗文芸, 王朝壮, 贺新福, 查元梓, 樊 胜, 黄小龙, 王传珊. 低能质子在半导体材料Si 和GaAs中的非电离能损研究.
,
2008, 57(2): 1266-1270.
doi: 10.7498/aps.57.1266
|
[13] |
李爱华, 张凯旺, 孟利军, 李 俊, 刘文亮, 钟建新. 基于graphene条带的硅纳米结构.
,
2008, 57(7): 4356-4363.
doi: 10.7498/aps.57.4356
|
[14] |
孟利军, 张凯旺, 钟建新. 硅纳米颗粒在碳纳米管表面生长的分子动力学模拟.
,
2007, 56(2): 1009-1013.
doi: 10.7498/aps.56.1009
|
[15] |
刘丽峰, 吕惠宾, 戴守愚, 陈正豪. 巨磁电阻材料La0.9Sr0.1MnO3与半导体Si组成的二极管的整流特性.
,
2005, 54(5): 2342-2345.
doi: 10.7498/aps.54.2342
|
[16] |
姜金龙, 李文杰, 周 立, 赵汝光, 杨威生. 高指数稳定硅表面的低能电子衍射图分析.
,
2003, 52(1): 156-162.
doi: 10.7498/aps.52.156
|
[17] |
张永平, 闫隆, 解思深, 庞世谨, 高鸿钧. Si(111)-(7×7)表面上Ge量子点的自组织生长.
,
2002, 51(2): 296-299.
doi: 10.7498/aps.51.296
|
[18] |
皇甫鲁江, 朱长纯, 淮永进. 掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响.
,
2002, 51(2): 382-388.
doi: 10.7498/aps.51.382
|
[19] |
李文杰, 姜金龙, 周立, 赵汝光, 杨威生. 三个新的稳定硅表面及其家族领地.
,
2002, 51(11): 2567-2574.
doi: 10.7498/aps.51.2567
|
[20] |
戴永兵, 沈荷生, 张志明, 何贤昶, 胡晓君, 孙方宏, 莘海维. 金刚石/硅(001)异质界面的分子动力学模拟研究.
,
2001, 50(2): 244-250.
doi: 10.7498/aps.50.244
|