[1] |
陈小明, 王明焱, 唐木智明, 李国荣. CaZrO3改性(Na, K)NbO3基无铅陶瓷电学性能的温度稳定性.
,
2021, 70(19): 197701.
doi: 10.7498/aps.70.20210440
|
[2] |
孙小伟, 宋婷, 刘子江, 万桂新, 张磊, 常文利. 氟化镁高压萤石结构稳定性及热物性的数值模拟.
,
2020, 69(15): 156202.
doi: 10.7498/aps.69.20200289
|
[3] |
陈钢进, 饶成平, 肖慧明, 黄华, 赵延海. 界面极化注极聚丙烯薄膜驻极体的电荷存储特性研究.
,
2015, 64(23): 237702.
doi: 10.7498/aps.64.237702
|
[4] |
张欣梧, 张晓青. 聚丙烯压电驻极体膜的压电和声学性能研究.
,
2013, 62(16): 167702.
doi: 10.7498/aps.62.167702
|
[5] |
闫静, 祁先进, 王寅岗. 退火对IrMn基磁隧道结多层膜热稳定性的影响.
,
2011, 60(8): 088106.
doi: 10.7498/aps.60.088106
|
[6] |
姚俊兰, 安振连, 毛明军, 张冶文, 夏钟福. 等温结晶化条件对氟化孔洞聚丙烯膜电荷稳定性的显著影响.
,
2010, 59(9): 6508-6513.
doi: 10.7498/aps.59.6508
|
[7] |
赵敏, 安振连, 姚俊兰, 解晨, 夏钟福. 孔洞聚丙烯驻极体膜中空间电荷与孔洞击穿电荷的俘获特性.
,
2009, 58(1): 482-487.
doi: 10.7498/aps.58.482
|
[8] |
郭子政, 宣志国, 张院生, 安彩虹. 铁磁纳米阵列膜温度稳定性的损伤扩散研究.
,
2008, 57(10): 6571-6576.
doi: 10.7498/aps.57.6571
|
[9] |
李 欣, 胡元中, 王 慧, 陈 辉. 润滑膜全氟聚醚的稳定性.
,
2007, 56(7): 4094-4098.
doi: 10.7498/aps.56.4094
|
[10] |
王飞鹏, 夏钟福, 张晓青, 黄金峰, 沈 军. 宏观电偶极子对聚丙烯铁电驻极体膜电荷储存及其动态特性的影响.
,
2007, 56(10): 6061-6067.
doi: 10.7498/aps.56.6061
|
[11] |
周晓华, 张劭光. 球形拓扑中复杂形状生物膜泡的获得及其稳定性分析.
,
2006, 55(10): 5568-5574.
doi: 10.7498/aps.55.5568
|
[12] |
王飞鹏, 夏钟福, 邱勋林, 沈 军. 聚丙烯孔洞铁电驻极体膜的电极化及其电荷动态特性.
,
2006, 55(7): 3705-3710.
doi: 10.7498/aps.55.3705
|
[13] |
安振连, 汤敏敏, 夏钟福, 盛晓晨, 张晓青. 聚丙烯孔洞驻极体膜的化学表面处理及电荷稳定性.
,
2006, 55(2): 803-810.
doi: 10.7498/aps.55.803
|
[14] |
温晓文, 李国俊, 仇高新, 李永平, 丁 磊, 隋 展. 反射型磁光多层膜隔离器工作稳定性的研究.
,
2005, 54(4): 1847-1853.
doi: 10.7498/aps.54.1847
|
[15] |
冀忠宝, 夏钟福, 沈莉莉, 安振连. 电晕充电的聚丙烯无纺布空气过滤膜的电荷储存及稳定性.
,
2005, 54(8): 3799-3804.
doi: 10.7498/aps.54.3799
|
[16] |
吴越华, 夏钟福, 安振连, 王飞鹏, 邱勋林. 恒流电晕充电对聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体驻极态的影响.
,
2004, 53(9): 3146-3151.
doi: 10.7498/aps.53.3146
|
[17] |
张鹏锋, 夏钟福, 安振连, 吴贤勇. 正充电聚四氟乙烯薄膜驻极体的电荷储存及其动态特性.
,
2004, 53(10): 3560-3564.
doi: 10.7498/aps.53.3560
|
[18] |
吴贤勇, 夏钟福, 安振连, 张鹏锋. 厚度对非极性聚合物薄膜驻极体电荷储存及电荷动态特性的影响.
,
2004, 53(12): 4325-4329.
doi: 10.7498/aps.53.4325
|
[19] |
夏钟福, 邱勋林, 张冶文, ArminWedel, RudiDanz. 聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体的电荷储存稳定性.
,
2002, 51(2): 389-394.
doi: 10.7498/aps.51.389
|
[20] |
张晓平, 高志强, 孙碧武, 谢侃, 林彰达. 金刚石膜与Si衬底间过渡层的结构稳定性.
,
1993, 42(2): 309-313.
doi: 10.7498/aps.42.309
|