| [1] |
李建军, 崔屿峥, 付聪乐, 秦晓伟, 李雨畅, 邓军. 具有多MO喷嘴垂直MOCVD反应腔外延层厚度均匀性的优化理论及应用.
,
2024, 73(4): 046801.
doi: 10.7498/aps.73.20231555
|
| [2] |
常超, 寇金宗, 徐小志. 原子台阶调控二维单晶材料生长.
,
2023, 72(20): 208101.
doi: 10.7498/aps.72.20230887
|
| [3] |
陈振飞, 冯露, 赵洋, 齐红蕊. 力和扩散机理下外延形貌的演化分析.
,
2015, 64(13): 138103.
doi: 10.7498/aps.64.138103
|
| [4] |
陈城钊, 郑元宇, 黄诗浩, 李成, 赖虹凯, 陈松岩. 硅基低位错密度厚锗外延层的UHV/CVD法生长.
,
2012, 61(7): 078104.
doi: 10.7498/aps.61.078104
|
| [5] |
苏少坚, 汪巍, 张广泽, 胡炜玄, 白安琪, 薛春来, 左玉华, 成步文, 王启明. Si(001)衬底上分子束外延生长Ge0.975Sn0.025合金薄膜.
,
2011, 60(2): 028101.
doi: 10.7498/aps.60.028101
|
| [6] |
宋禹忻, 俞重远, 刘玉敏. 沉积速率和生长停顿对InAs/GaAs量子点超晶格生长影响的综合分析.
,
2008, 57(4): 2399-2403.
doi: 10.7498/aps.57.2399
|
| [7] |
李美亚, 汪 晶, 刘 军, 于本方, 郭冬云, 赵兴中. YBa2Cu3O7-x涂层导体的外延生长和性能对CeO2缓冲层的依赖性.
,
2008, 57(5): 3132-3137.
doi: 10.7498/aps.57.3132
|
| [8] |
喻利花, 董松涛, 董师润, 许俊华. AlN/Si3N4纳米多层膜的外延生长与力学性能.
,
2008, 57(8): 5151-5158.
doi: 10.7498/aps.57.5151
|
| [9] |
何 萌, 刘国珍, 仇 杰, 邢 杰, 吕惠宾. 用激光分子束外延在Si衬底上外延生长高质量的TiN薄膜.
,
2008, 57(2): 1236-1240.
doi: 10.7498/aps.57.1236
|
| [10] |
赵文济, 董云杉, 岳建岭, 李戈扬. Si3N4的晶体化和ZrN/Si3N4纳米多层膜的超硬效应.
,
2007, 56(1): 459-464.
doi: 10.7498/aps.56.459
|
| [11] |
刘 艳, 董云杉, 岳建岭, 李戈扬. 反应磁控溅射ZrN/AlON纳米多层膜的晶体生长和超硬效应.
,
2006, 55(11): 6013-6019.
doi: 10.7498/aps.55.6013
|
| [12] |
康祥喆, 叶 辉. 铁电钾钠铌酸锶钡薄膜电光性能的研究.
,
2006, 55(9): 4928-4933.
doi: 10.7498/aps.55.4928
|
| [13] |
孔 明, 魏 仑, 董云杉, 李戈扬. TiN/Al2O3纳米多层膜的共格外延生长及超硬效应.
,
2006, 55(2): 770-775.
doi: 10.7498/aps.55.770
|
| [14] |
周耐根, 周 浪, 杜丹旭. 面心立方晶体外延膜沉积生长中失配位错的结构与形成过程.
,
2006, 55(1): 372-377.
doi: 10.7498/aps.55.372
|
| [15] |
魏 仑, 梅芳华, 邵 楠, 李戈扬, 李建国. TiN/SiO2纳米多层膜的晶体生长与超硬效应.
,
2005, 54(4): 1742-1748.
doi: 10.7498/aps.54.1742
|
| [16] |
劳技军, 孔 明, 张惠娟, 李戈扬. TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能.
,
2004, 53(6): 1961-1966.
doi: 10.7498/aps.53.1961
|
| [17] |
熊昌民, 孙继荣, 王登京, 沈保根. 厚度与应变效应对La0.67Ca0.33MnO3薄膜电输运与居里温度的影响.
,
2004, 53(11): 3909-3915.
doi: 10.7498/aps.53.3909
|
| [18] |
劳技军, 胡晓萍, 虞晓江, 李戈扬, 顾明元. AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响.
,
2003, 52(9): 2259-2263.
doi: 10.7498/aps.52.2259
|
| [19] |
叶健松, 胡晓君. 超薄膜外延生长的Monte Carlo模拟.
,
2002, 51(5): 1108-1112.
doi: 10.7498/aps.51.1108
|
| [20] |
王剑屏, 郝跃, 彭军, 朱作云, 张永华. 蓝宝石衬底上异质外延生长碳化硅薄膜的研究.
,
2002, 51(8): 1793-1797.
doi: 10.7498/aps.51.1793
|
下载:
