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磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析

沈自才 邵建达 王英剑 范正修

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磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析

沈自才, 邵建达, 王英剑, 范正修

Modeling analysis of gradient-index coatings prepared by reactive magnetron sputtering

Shen Zi-Cai, Shao Jian-Da, Wang Ying-Jian, Fan Zheng-Xiu
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-10-29
  • 修回日期:  2004-12-09
  • 刊出日期:  2005-05-05

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