[1] |
常帅军, 马海伦, 李浩, 欧树基, 郭建飞, 钟鸣浩, 刘莉. 一种能够改善鲁棒性的新型4H-SiC ESD防护器件.
,
2022, 71(19): 198501.
doi: 10.7498/aps.71.20220879
|
[2] |
李传纲, 鞠涛, 张立国, 李杨, 张璇, 秦娟, 张宝顺, 张泽洪. Ti, N共掺杂4H-SiC复合增强缓冲层生长及其对PiN二极管正向性能稳定性的改善.
,
2021, 70(3): 037102.
doi: 10.7498/aps.70.20200921
|
[3] |
杜园园, 张春雷, 曹学蕾. 基于4H-SiC肖特基势垒二极管的射线探测器.
,
2016, 65(20): 207301.
doi: 10.7498/aps.65.207301
|
[4] |
吕懿, 张鹤鸣, 胡辉勇, 杨晋勇, 殷树娟, 周春宇. 单轴应变SiNMOSFET源漏电流特性模型.
,
2015, 64(19): 197301.
doi: 10.7498/aps.64.197301
|
[5] |
刘宾礼, 唐勇, 罗毅飞, 刘德志, 王瑞田, 汪波. 基于电压变化率的IGBT结温预测模型研究.
,
2014, 63(17): 177201.
doi: 10.7498/aps.63.177201
|
[6] |
周春宇, 张鹤鸣, 胡辉勇, 庄奕琪, 舒斌, 王斌, 王冠宇. 应变Si NMOSFET阈值电压集约物理模型.
,
2013, 62(7): 077103.
doi: 10.7498/aps.62.077103
|
[7] |
屈江涛, 张鹤鸣, 王冠宇, 王晓艳, 胡辉勇. 多晶SiGe栅量子阱pMOSFET阈值电压模型.
,
2011, 60(5): 058502.
doi: 10.7498/aps.60.058502
|
[8] |
程萍, 张玉明, 张义门. 退火对非故意掺杂4H-SiC外延材料386 nm和388 nm发射峰的影响.
,
2011, 60(1): 017103.
doi: 10.7498/aps.60.017103
|
[9] |
苗瑞霞, 张玉明, 汤晓燕, 张义门. 4H-SiC中基面位错发光特性研究.
,
2011, 60(3): 037808.
doi: 10.7498/aps.60.037808
|
[10] |
张志锋, 张鹤鸣, 胡辉勇, 宣荣喜, 宋建军. 应变Si沟道nMOSFET阈值电压模型.
,
2009, 58(7): 4948-4952.
doi: 10.7498/aps.58.4948
|
[11] |
汤晓燕, 张义门, 张玉明. SiC肖特基源漏MOSFET的阈值电压.
,
2009, 58(1): 494-497.
doi: 10.7498/aps.58.494
|
[12] |
贾仁需, 张义门, 张玉明, 王悦湖. N型4H-SiC同质外延生长.
,
2008, 57(10): 6649-6653.
doi: 10.7498/aps.57.6649
|
[13] |
张鹤鸣, 崔晓英, 胡辉勇, 戴显英, 宣荣喜. 应变SiGe SOI量子阱沟道PMOSFET阈值电压模型研究.
,
2007, 56(6): 3504-3508.
doi: 10.7498/aps.56.3504
|
[14] |
李艳萍, 徐静平, 陈卫兵, 许胜国, 季 峰. 考虑量子效应的短沟道MOSFET二维阈值电压模型.
,
2006, 55(7): 3670-3676.
doi: 10.7498/aps.55.3670
|
[15] |
代月花, 陈军宁, 柯导明, 孙家讹, 胡 媛. 纳米MOSFET迁移率解析模型.
,
2006, 55(11): 6090-6094.
doi: 10.7498/aps.55.6090
|
[16] |
代月花, 陈军宁, 柯导明, 孙家讹. 考虑量子化效应的MOSFET阈值电压解析模型.
,
2005, 54(2): 897-901.
doi: 10.7498/aps.54.897
|
[17] |
吕红亮, 张义门, 张玉明. 4H-SiC pn结型二极管击穿特性中隧穿效应影响的模拟研究.
,
2003, 52(10): 2541-2546.
doi: 10.7498/aps.52.2541
|
[18] |
张洪涛, 徐重阳, 邹雪城, 王长安, 赵伯芳, 周雪梅, 曾祥斌. 4H-SiC纳米薄膜的微结构及其光电性质研究.
,
2002, 51(2): 304-309.
doi: 10.7498/aps.51.304
|
[19] |
杨林安, 张义门, 龚仁喜, 张玉明. 4H-SiC射频功率MESFET的自热效应分析.
,
2002, 51(1): 148-152.
doi: 10.7498/aps.51.148
|
[20] |
徐昌发, 杨银堂, 刘莉. 4H-SiC MOSFET的温度特性研究.
,
2002, 51(5): 1113-1117.
doi: 10.7498/aps.51.1113
|