搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

低压等离子体增强化学汽相沉积法制备立方氮化碳薄膜

张志宏 郭怀喜 余非为 熊启华 叶明生 范湘军

引用本文:
Citation:

低压等离子体增强化学汽相沉积法制备立方氮化碳薄膜

张志宏, 郭怀喜, 余非为, 熊启华, 叶明生, 范湘军

PREPARATION OF CUBIC C3N4 THIN FILMS BY LOW-PRESSURE PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

ZHANG ZHI-HONG, GUO HUAI-XI, YU FEI-WEI, XIONG QI-HUA, YE MING-SHENG, FAN XIANG-JUN
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  6622
  • PDF下载量:  630
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1997-09-08
  • 刊出日期:  1998-03-05

/

返回文章
返回
Baidu
map