| [1] |
袁国亮, 王琛皓, 唐文彬, 张睿, 陆旭兵. HfO2基铁电薄膜的结构、性能调控及典型器件应用.
,
2023, 72(9): 097703.
doi: 10.7498/aps.72.20222221
|
| [2] |
石志鑫, 周大雨, 李帅东, 徐进, UweSchröder. 一阶回转曲线图谱法及其在HfO2基铁电薄膜极化翻转行为研究中的应用.
,
2021, 70(12): 127702.
doi: 10.7498/aps.70.20210115
|
| [3] |
王志青, 姚晓萍, 沈杰, 周静, 陈文, 吴智. 锆钛酸铅薄膜的铁电疲劳微观机理及其耐疲劳性增强.
,
2021, 70(14): 146302.
doi: 10.7498/aps.70.20202196
|
| [4] |
王巨杉, 马金鹏, 赵祥永, 陈明珠, 王飞飞, 王涛, 唐艳学, 程玮, 林迪, 罗豪甦. Mn掺杂Pb(In1/2Nb1/2)O3-Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3单晶微米尺度压电阵列的制备与铁电畴结构研究.
,
2020, 69(18): 187701.
doi: 10.7498/aps.69.20200544
|
| [5] |
李敏, 时鑫娜, 张泽霖, 吉彦达, 樊济宇, 杨浩. 柔性Pb(Zr0.53Ti0.47)O3薄膜的高温铁电特性.
,
2019, 68(8): 087302.
doi: 10.7498/aps.68.20181967
|
| [6] |
杨郁, 唐成双, 赵一帆, 虞一青, 辛煜. 甚高频激发的容性耦合Ar+O2等离子体电负特性研究.
,
2017, 66(18): 185202.
doi: 10.7498/aps.66.185202
|
| [7] |
张润兰, 邢辉, 陈长乐, 段萌萌, 罗炳成, 金克新. YMnO3薄膜的铁电行为及其纳米尺度铁电畴的研究.
,
2014, 63(18): 187701.
doi: 10.7498/aps.63.187701
|
| [8] |
吕业刚, 梁晓琳, 谭永宏, 郑学军, 龚跃球, 何林. 微结构对Eu掺杂Bi4Ti3O12铁电薄膜铁电性能的影响.
,
2011, 60(2): 027701.
doi: 10.7498/aps.60.027701
|
| [9] |
单丹, 朱珺钏, 金灿, 陈小兵. B位等价掺杂SrBi4Ti4O15铁电材料的性能研究.
,
2009, 58(10): 7235-7240.
doi: 10.7498/aps.58.7235
|
| [10] |
谭丛兵, 钟向丽, 王金斌, 廖 敏, 周益春, 潘 伟. Nd掺杂对Bi4Ti3O12铁电薄膜的微结构和铁电性能的影响.
,
2007, 56(10): 6084-6089.
doi: 10.7498/aps.56.6084
|
| [11] |
王 华, 任明放. SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12复合铁电薄膜的制备与特性研究.
,
2007, 56(12): 7315-7319.
doi: 10.7498/aps.56.7315
|
| [12] |
王 华, 任鸣放. Si基Bi3.25La0.75Ti3O12铁电薄膜的制备与特性研究.
,
2006, 55(6): 3152-3156.
doi: 10.7498/aps.55.3152
|
| [13] |
金 灿, 朱 骏, 毛翔宇, 何军辉, 陈小兵. Mo掺杂SrBi4Ti4O15陶瓷的铁电介电性能.
,
2006, 55(7): 3716-3720.
doi: 10.7498/aps.55.3716
|
| [14] |
黄 平, 徐廷献, 崔彩娥. SrBi4Ti4O15铁电薄膜的制备工艺及薄膜生长机理 研究.
,
2006, 55(3): 1464-1471.
doi: 10.7498/aps.55.1464
|
| [15] |
王华. Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜的制备与特性研究.
,
2004, 53(4): 1265-1270.
doi: 10.7498/aps.53.1265
|
| [16] |
朱 骏, 毛翔宇, 陈小兵. Bi4-xLaxTi3O12-SrBi4Ti4O15,共生结构铁电材料拉曼光谱研究.
,
2004, 53(11): 3929-3933.
doi: 10.7498/aps.53.3929
|
| [17] |
朱 骏, 卢网平, 刘秋朝, 毛翔宇, 惠 荣, 陈小兵. La掺杂SrBi4Ti4O15铁电材料性能研究.
,
2003, 52(6): 1524-1528.
doi: 10.7498/aps.52.1524
|
| [18] |
彭毅萍, 王渊旭, 张 磊, 张沛霖, 钟维烈. K(Ta0.56Nb0.44)O3四方铁电结构的第一性原理研究.
,
2000, 49(6): 1140-1143.
doi: 10.7498/aps.49.1140
|
| [19] |
杨平雄, 邓红梅, 褚君浩. 层状钙钛矿结构铁电薄膜SrBi2Ta2O9的掺杂改性研究.
,
1998, 47(7): 1222-1228.
doi: 10.7498/aps.47.1222
|
| [20] |
许煜寰, 王虹, 陈焕矗. 铁电晶体PbxBa1-xNb2O6和掺Li,Na的PbxBa1-xNb2O6的结构和电弹张量的测定.
,
1988, 37(8): 1350-1356.
doi: 10.7498/aps.37.1350
|
下载:
