强磁场对不同厚度Fe80Ni20薄膜的微观结构及磁性能的影响

曹永泽; 李国建; 王强; 马永会; 王慧敏; 赫冀成

doi:10.7498/aps.62.227501

摘要

有无6 T强磁场条件下利用分子束气相沉积方法制备了不同厚度的Fe80Ni20薄膜. 研究发现, 薄膜的面内矫顽力随厚度增加而降低且符合Neel理论; 矩形比随厚度的增加先快速增大后缓慢降低; 6 T磁场抑制了颗粒团聚及异常长大, 并降低了薄膜表面的粗糙度, 这使薄膜的矫顽力要小于无磁场作用的薄膜, 矩形比大于无磁场作用的薄膜; 而且薄膜在垂直于基片表面的6 T磁场作用下由0 T下的面内磁各向异性转变为磁各向同性.

关键词:

Abstract

Fe80Ni20 thin films with different thickness values are prepared by the molecular beam vapor deposition technique, respectively, in the cases with applying no magnetic field and with applying a 6 T magnetic field perpendicular to the surface of substrates. Film property studies show that as film thickness value increases, the coercive force in-plane decreases, which is in accordance with Neel theory, and that the squareness ratio first quickly increases, and then slowly decreases. The 6 T magnetic field restrains coalescence and abnormal growth of grains, and reduces surface roughness. Therefore, with 6 T magnetic field applied during the film preparation, the coercive force of thin film is less and the squareness ratio is larger than that with no magnetic field applied. The thin films are anisotropic in-plane with applying no magnetic field, but isotropic with applying a 6 T magnetic field.

Keywords:

作者及机构信息

1.
东北大学, 材料电磁过程研究教育部重点实验室, 沈阳 110819

基金项目: 国家自然科学基金(批准号: 51101034, 51061130557, 51101032)和中央高校基本科研业务费专项资金 (批准号: N120509001, N120609001)资助的课题.

Authors and contacts

1.
Key Laboratory of Electromagnetic Processing of Materials (Ministry of Education), Northeastern University, Shenyang 110819, China

Funds: Project supported by the National Natural Science Foundation of China (Grant Nos. 51101034, 51061130557, 51101032) and the Fundamental Research Funds for the Central Universities, China (Grant Nos. N120509001, N120609001).

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