| [1] |
刘伟, 平云霞, 杨俊, 薛忠营, 魏星, 武爱民, 俞文杰, 张波. 微波退火和快速热退火下钛调制镍与锗锡反应.
,
2021, 70(11): 116801.
doi: 10.7498/aps.70.20202118
|
| [2] |
顾朝桥, 郭红霞, 潘霄宇, 雷志峰, 张凤祁, 张鸿, 琚安安, 柳奕天. 不同应力下碳化硅场效应晶体管器件总剂量效应及退火特性.
,
2021, 70(16): 166101.
doi: 10.7498/aps.70.20210515
|
| [3] |
蒋行, 周玉荣, 刘丰珍, 周玉琴. 后退火处理对铟锡氧化物表面等离激元共振特性的影响.
,
2018, 67(17): 177802.
doi: 10.7498/aps.67.20180435
|
| [4] |
陶泽华, 董海明. MoS2电子屏蔽长度和等离激元.
,
2017, 66(24): 247701.
doi: 10.7498/aps.66.247701
|
| [5] |
吴学科, 黄伟其, 董泰阁, 王刚, 刘世荣, 秦朝介. 热退火、激光束和电子束等作用对纳米硅制备及其局域态发光特性的影响.
,
2016, 65(10): 104202.
doi: 10.7498/aps.65.104202
|
| [6] |
孙凯, 何志群, 梁春军. 多温度阶梯退火对有机聚合物太阳能电池器件性能的影响.
,
2014, 63(4): 048801.
doi: 10.7498/aps.63.048801
|
| [7] |
商怀超, 刘红侠, 卓青青. 低剂量率60Co γ 射线辐照下SOI MOS器件的退化机理.
,
2012, 61(24): 246101.
doi: 10.7498/aps.61.246101
|
| [8] |
高利岩, 赵谡玲, 徐征, 张福俊, 孙钦军, 张天慧, 闫光, 徐叙瑢. 水溶性CuPc旋涂转速及退火方式对蓝色有机电致发光器件性能的影响.
,
2011, 60(3): 037203.
doi: 10.7498/aps.60.037203
|
| [9] |
宋超, 陈谷然, 徐骏, 王涛, 孙红程, 刘宇, 李伟, 陈坤基. 不同退火温度下晶化硅薄膜的电学输运性质.
,
2009, 58(11): 7878-7883.
doi: 10.7498/aps.58.7878
|
| [10] |
刘林杰, 岳远征, 张进城, 马晓华, 董作典, 郝跃. Al2O3绝缘栅AlGaN/GaN MOS-HEMT器件温度特性研究.
,
2009, 58(1): 536-540.
doi: 10.7498/aps.58.536
|
| [11] |
杜正聪, 唐 斌, 李 可. 混合退火粒子滤波器.
,
2006, 55(3): 999-1004.
doi: 10.7498/aps.55.999
|
| [12] |
柳 义, 柳 林, 王 俊, 赵 辉, 荣利霞, 董宝中. 用原位x射线小角散射研究块体非晶合金Zr55Cu30Al10 Ni5的结构弛豫.
,
2003, 52(9): 2219-2222.
doi: 10.7498/aps.52.2219
|
| [13] |
张进城, 郝跃, 朱志炜. MOS结构中薄栅氧化层高场退火效应的研究.
,
2001, 50(8): 1585-1589.
doi: 10.7498/aps.50.1585
|
| [14] |
王焕荣, 滕新营, 石志强, 叶以富, 闵光辉. 非晶态Cu56Zr44合金的结构及其等温退火晶化过程的研究.
,
2001, 50(11): 2192-2197.
doi: 10.7498/aps.50.2192
|
| [15] |
余明斌, 何宇亮, 刘洪涛, 罗晋生. 纳米硅薄膜退火特性.
,
1995, 44(4): 634-639.
doi: 10.7498/aps.44.634
|
| [16] |
. 离子注入GaAs的脉冲激光退火.
,
1988, 37(5): 842-846.
doi: 10.7498/aps.37.842
|
| [17] |
侯建国, 吴自勒. a-Ge/Au双层膜退火后分形区的形成.
,
1988, 37(10): 1735-1740.
doi: 10.7498/aps.37.1735
|
| [18] |
陈笃行. 金属玻璃在磁场张力退火时感生磁向各异性、磁致伸缩和应变的变化.
,
1985, 34(4): 512-519.
doi: 10.7498/aps.34.512
|
| [19] |
李元恒. 离子注入Si在连续CO2激光退火时的动态反射特性.
,
1981, 30(4): 542-544.
doi: 10.7498/aps.30.542
|
| [20] |
王贵华, 刘振茂. 硅中退火多边化.
,
1966, 22(4): 412-422.
doi: 10.7498/aps.22.412
|
下载:
