| [1] |
孙肖宁, 曲兆明, 王庆国, 袁扬. VO2纳米粒子填充型聚合物薄膜电致相变特性.
,
2020, 69(24): 247201.
doi: 10.7498/aps.69.20200834
|
| [2] |
李志文, 岂云开, 顾建军, 孙会元. 退火氛围对掺杂ZnO薄膜磁性的影响.
,
2012, 61(13): 137501.
doi: 10.7498/aps.61.137501
|
| [3] |
张增院, 郜小勇, 冯红亮, 马姣民, 卢景霄. 真空热退火温度对单相Ag2O薄膜微结构和光学性质的影响.
,
2011, 60(3): 036107.
doi: 10.7498/aps.60.036107
|
| [4] |
宋超, 陈谷然, 徐骏, 王涛, 孙红程, 刘宇, 李伟, 陈坤基. 不同退火温度下晶化硅薄膜的电学输运性质.
,
2009, 58(11): 7878-7883.
doi: 10.7498/aps.58.7878
|
| [5] |
赵安昆, 任忠鸣, 任树洋, 操光辉, 任维丽. 强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响.
,
2009, 58(10): 7101-7107.
doi: 10.7498/aps.58.7101
|
| [6] |
丁万昱, 徐军, 陆文琪, 邓新绿, 董闯. 微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究.
,
2009, 58(6): 4109-4116.
doi: 10.7498/aps.58.4109
|
| [7] |
李荣斌. 掺杂CVD金刚石薄膜的应力分析.
,
2007, 56(6): 3428-3434.
doi: 10.7498/aps.56.3428
|
| [8] |
丁万昱, 徐 军, 李艳琴, 朴 勇, 高 鹏, 邓新绿, 董 闯. 微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析.
,
2006, 55(3): 1363-1368.
doi: 10.7498/aps.55.1363
|
| [9] |
苏良碧, 张 丹, 李红军, 钱小波, 沈 冏, 周国清, 徐 军. V3+∶YAG晶体的生长、色心与光谱性能研究.
,
2006, 55(11): 5987-5990.
doi: 10.7498/aps.55.5987
|
| [10] |
吴振宇, 杨银堂, 汪家友. 微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积法制备非晶氟化碳薄膜的研究.
,
2006, 55(5): 2572-2577.
doi: 10.7498/aps.55.2572
|
| [11] |
孟春霞, 黄世华, 由芳田, 常建军, 彭洪尚, 陶 冶, 张国斌. YAG:Pr3+的真空紫外光谱分析及其4f5d能级的研究.
,
2005, 54(11): 5468-5473.
doi: 10.7498/aps.54.5468
|
| [12] |
秦福文, 顾 彪, 徐 茵, 杨大智. 氮化铝单晶薄膜的ECRPEMOCVD低温生长研究.
,
2003, 52(5): 1240-1244.
doi: 10.7498/aps.52.1240
|
| [13] |
许圣华, 辛 煜, 宁兆元, 程珊华, 黄 松, 陆新华, 项苏留, 陈 军. ECR-CVD制备的非晶SiOxNy薄膜的光致蓝光发射.
,
2003, 52(5): 1287-1291.
doi: 10.7498/aps.52.1287
|
| [14] |
谢大弢, 赵夔, 王莉芳, 朱凤, 全胜文, 孟铁军, 张保澄, 陈佳洱. 用磁控溅射和真空硒化退火方法制备高质量的铜铟硒多晶薄膜.
,
2002, 51(6): 1377-1382.
doi: 10.7498/aps.51.1377
|
| [15] |
辛煜, 宁兆元, 程珊华, 陆新华, 甘肇强, 黄松. ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在N2气氛中的热退火研究.
,
2002, 51(2): 439-443.
doi: 10.7498/aps.51.439
|
| [16] |
柴春林, 滕蛟, 于广华, 朱逢吾, 赖武彦, 肖纪美. 退火对FeMn钉扎自旋阀性质的影响.
,
2002, 51(8): 1846-1850.
doi: 10.7498/aps.51.1846
|
| [17] |
童六牛, 何贤美, 鹿 牧. 真空退火对周期性界面掺杂Ni80Co20薄膜磁性的影响.
,
2000, 49(11): 2290-2295.
doi: 10.7498/aps.49.2290
|
| [18] |
陈俊芳, 吴先球, 王德秋, 丁振峰, 任兆杏. ECR-PECVD制备Si3N4薄膜沉积工艺的研究.
,
1999, 48(7): 1309-1314.
doi: 10.7498/aps.48.1309
|
| [19] |
徐 明, 柴春林, 罗光明, 杨 涛, 赖武彦, 麦振洪. 真空退火对Ni80Fe20/Cu多层膜微结构的影响.
,
1999, 48(13): 8-15.
doi: 10.7498/aps.48.8
|
| [20] |
余明斌, 何宇亮, 刘洪涛, 罗晋生. 纳米硅薄膜退火特性.
,
1995, 44(4): 634-639.
doi: 10.7498/aps.44.634
|
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