[1] |
张磊, 陈起航, 曹硕, 钱萍. 基于第一性原理计算单层IrSCl和IrSI的载流子迁移率.
,
2024, 73(21): 217201.
doi: 10.7498/aps.73.20241044
|
[2] |
张冷, 张鹏展, 刘飞, 李方政, 罗毅, 侯纪伟, 吴孔平. 基于形变势理论的掺杂计算Sb2Se3空穴迁移率.
,
2024, 73(4): 047101.
doi: 10.7498/aps.73.20231406
|
[3] |
陆康俊, 王一帆, 夏谦, 张贵涛, 陈乾. 结构相变引起单层RuSe2载流子迁移率的提高.
,
2024, 73(14): 146302.
doi: 10.7498/aps.73.20240557
|
[4] |
席晓文, 柴常春, 刘阳, 杨银堂, 樊庆扬. 外界条件在电磁脉冲对GaAs赝高电子迁移率晶体管损伤过程中的影响.
,
2017, 66(7): 078401.
doi: 10.7498/aps.66.078401
|
[5] |
安霞, 黄如, 李志强, 云全新, 林猛, 郭岳, 刘朋强, 黎明, 张兴. 高迁移率Ge沟道器件研究进展.
,
2015, 64(20): 208501.
doi: 10.7498/aps.64.208501
|
[6] |
王晓艳, 张鹤鸣, 宋建军, 马建立, 王冠宇, 安久华. 应变Si/(001)Si1-xGex电子迁移率.
,
2011, 60(7): 077205.
doi: 10.7498/aps.60.077205
|
[7] |
王鑫华, 赵妙, 刘新宇, 蒲颜, 郑英奎, 魏珂. AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率器件的电容电压特性的经验拟合.
,
2011, 60(4): 047101.
doi: 10.7498/aps.60.047101
|
[8] |
毛维, 杨翠, 郝跃, 张进成, 刘红侠, 马晓华, 王冲, 张金风, 杨林安, 许晟瑞, 毕志伟, 周洲, 杨凌, 王昊. 场板抑制GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌的机理研究.
,
2011, 60(1): 017205.
doi: 10.7498/aps.60.017205
|
[9] |
张金风, 王平亚, 薛军帅, 周勇波, 张进成, 郝跃. 高电子迁移率晶格匹配InAlN/GaN材料研究.
,
2011, 60(11): 117305.
doi: 10.7498/aps.60.117305
|
[10] |
王冲, 全思, 马晓华, 郝跃, 张进城, 毛维. 增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管高温退火研究.
,
2010, 59(10): 7333-7337.
doi: 10.7498/aps.59.7333
|
[11] |
刘玉荣, 王智欣, 虞佳乐, 徐海红. 高迁移率聚合物薄膜晶体管.
,
2009, 58(12): 8566-8570.
doi: 10.7498/aps.58.8566
|
[12] |
林若兵, 王欣娟, 冯 倩, 王 冲, 张进城, 郝 跃. AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管肖特基高温退火机理研究.
,
2008, 57(7): 4487-4491.
doi: 10.7498/aps.57.4487
|
[13] |
李 潇, 张海英, 尹军舰, 刘 亮, 徐静波, 黎 明, 叶甜春, 龚 敏. 磷化铟复合沟道高电子迁移率晶体管击穿特性研究.
,
2007, 56(7): 4117-4121.
doi: 10.7498/aps.56.4117
|
[14] |
高宏玲, 李东临, 周文政, 商丽燕, 王宝强, 朱战平, 曾一平. 不同量子阱宽度的InP基In0.53GaAs/In0.52AlAs高电子迁移率晶体管材料二维电子气的性能研究.
,
2007, 56(8): 4955-4959.
doi: 10.7498/aps.56.4955
|
[15] |
代月花, 陈军宁, 柯导明, 孙家讹, 胡 媛. 纳米MOSFET迁移率解析模型.
,
2006, 55(11): 6090-6094.
doi: 10.7498/aps.55.6090
|
[16] |
李志锋, 陆 卫, 叶红娟, 袁先璋, 沈学础, G.Li, S.J.Chua. GaN载流子浓度和迁移率的光谱研究.
,
2000, 49(8): 1614-1619.
doi: 10.7498/aps.49.1614
|
[17] |
沈文忠, 唐文国, 沈学础, A.Dimonlas. δ掺杂的赝形高电子迁移率晶体管AIGaAs/InGaAs/GaAs结构中的费密边奇异性研究.
,
1995, 44(5): 825-831.
doi: 10.7498/aps.44.825
|
[18] |
沈文忠, 唐文国, 沈学础, A.Dimoulas. δ掺杂的赝形高电子迁移率晶体管AlGaAs/InGaAs/GaAs结构的光谱研究.
,
1995, 44(5): 779-787.
doi: 10.7498/aps.44.779
|
[19] |
刘有延, 周义昌. 一维无公度势系统的迁移率边.
,
1988, 37(11): 1807-1813.
doi: 10.7498/aps.37.1807
|
[20] |
郑兆勃, 朱凯. 一维无公度体系的电子谱和迁移率边.
,
1987, 36(5): 623-629.
doi: 10.7498/aps.36.623
|