磷在SiO<sub>2</sub>-Si系统中的扩散

李克诚; 薛士蓥; 祝忠德; 黄詠

doi:10.7498/aps.21.707

摘要

用中子激活方法,对气态P2O5在SiO2-Si系统中的扩散分布进行了直接测量。样品为p型Si单晶,电阻率为3—5欧姆·厘米,氧化层是在1250℃下水汽中生长的,其厚度为0.45—0.47微米。实验结果表明:对于完全掩蔽的样品,磷在SiO2层中的浓度分布有个陡峭的边界;对于掩蔽失效情形,在靠近SiO2-Si交界面约0.1微米的SiO2层内,磷的浓度显著地降低,出现一个明显的交界层,在交界层以外的SiO2层中磷的浓度是均匀的和恒定的,而交界层中磷的浓度及磷在Si中的表面浓度都随时间的延长而显著地升高,文中对所得的结果作了简单讨论。
Abstract
作者及机构信息
李克诚,

薛士蓥,

祝忠德,

黄詠

1.
北京大学物理系
Authors and contacts
1.
北京大学物理系
参考文献

[1]

施引文献
[1]

[1]	王朋, 王超, 胡丽丽, 张丽艳. SiO2对Yb3+离子在磷酸盐玻璃中扩大Stark分裂的作用. , 2016, 65(5): 057801. doi: 10.7498/aps.65.057801
[2]	康朝阳, 唐军, 李利民, 闫文盛, 徐彭寿, 韦世强. SiO2/Si衬底上石墨烯的制备与结构表征. , 2012, 61(3): 037302. doi: 10.7498/aps.61.037302
[3]	曹博, 包良满, 李公平, 何山虎. Cu/SiO2/Si(111)体系中Cu和Si的扩散及界面反应. , 2006, 55(12): 6550-6555. doi: 10.7498/aps.55.6550
[4]	陈长勇, 陈维德, 王永谦, 宋淑芳, 许振嘉. 掺铒nc-Si/SiO2薄膜中nc-Si和Er3+与非辐射复合缺陷间相互作用对薄膜发光特性的影响. , 2003, 52(3): 736-739. doi: 10.7498/aps.52.736
[5]	孙永科, 衡成林, 王孙涛, 秦国刚, 马振昌, 宗婉华. Au/(SiO2/Si/SiO2)纳米双势垒/n+-Si结构的电致发光研究. , 2000, 49(7): 1404-1408. doi: 10.7498/aps.49.1404
[6]	朱开贵, 石建中, 邵庆益. 镶嵌在SiO2薄膜中InAs纳米颗粒的Raman散射. , 2000, 49(11): 2304-2306. doi: 10.7498/aps.49.2304
[7]	石旺舟, 姚伟国, 戚震中, 何怡贞. 镶嵌在SiO2薄膜中纳米GaAs颗粒的Raman散射研究. , 1995, 44(7): 1172-1176. doi: 10.7498/aps.44.1172
[8]	汪卫华, 白海洋, 陈红, 张云, 王文魁. Ni在非晶Si中扩散机制的原位X射线衍射研究. , 1993, 42(9): 1505-1509. doi: 10.7498/aps.42.1505
[9]	陈开茅, 金泗轩, 武兰青, 曾树荣, 刘鸿飞. 在p型硅MOS结构Si/SiO2界面区中与金有关的界面态和深能级. , 1993, 42(8): 1324-1332. doi: 10.7498/aps.42.1324
[10]	陈存礼；周衡南；曹明珠；蒋宏伟；徐伟文；郭玲；黄敏. SiO_2上共溅射W-Si薄膜退火后的X射线衍射研究. , 1989, 38(8): 1379-1383. doi: 10.7498/aps.38.1379
[11]	卢江, 吴自勤. Si-W/Si/SiO2/Si(100)的横截面电子显微镜研究. , 1989, 38(6): 981-986. doi: 10.7498/aps.38.981
[12]	傅春寅, 鲁永令, 曾树荣. 稀土元素Ce热引入Si单晶中及Ce在Si中的扩散系数. , 1989, 38(9): 1534-1539. doi: 10.7498/aps.38.1534
[13]	齐鸣, 罗晋生. NH3退火热氮化SiO2薄膜及其与Si界面特性的研究. , 1988, 37(10): 1600-1606. doi: 10.7498/aps.37.1600
[14]	黄炳忠, 余玉贞, 洪国光. Si-SiO2界面的粗糙度. , 1987, 36(7): 829-837. doi: 10.7498/aps.36.829
[15]	李思渊, 张同军, 王毓珍, 李寿嵩, 殷之平. 无金和掺金Si-SiO2界面的氧退火特性. , 1985, 34(6): 715-724. doi: 10.7498/aps.34.715
[16]	陈式刚. 反应扩散系统中的涨落问题. , 1982, 31(1): 50-57. doi: 10.7498/aps.31.50
[17]	莫党, 陈树光, 余玉贞, 黄炳忠. Si-SiO₂膜的椭圆偏振光谱. , 1980, 29(5): 673-676. doi: 10.7498/aps.29.673
[18]	刘忠立. 一种简易的监控Si-SiO_2界面质量的水银探针. , 1977, 26(3): 281-284. doi: 10.7498/aps.26.281
[19]	李克诚, 薛士蓥, 祝忠德, 黄詠. 磷在硅表面氧化层中的扩散. , 1965, 21(3): 496-502. doi: 10.7498/aps.21.496
[20]	陈辰嘉, 杨澄清, 黄亨吉. 磷通过热生长二氧化硅层在硅中的扩散. , 1964, 20(7): 662-669. doi: 10.7498/aps.20.662

计量

文章访问数: 9124
PDF下载量: 601
被引次数: 0

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

搜索

留言板

磷在SiO₂-Si系统中的扩散

摘要

Abstract

作者及机构信息

1.
北京大学物理系

Authors and contacts

1.
北京大学物理系

参考文献

施引文献

目录

计量

作者中心

审稿中心

关于期刊

关于我们

搜索

留言板

磷在SiO2-Si系统中的扩散

摘要

Abstract

作者及机构信息

1. 北京大学物理系

Authors and contacts

1. 北京大学物理系

参考文献

施引文献

目录

计量

出版历程

作者中心

审稿中心

关于期刊

关于我们

磷在SiO₂-Si系统中的扩散

1.
北京大学物理系

1.
北京大学物理系