| [1] |
刘保剑, 段微波, 李大琪, 余德明, 陈刚, 王天洪, 刘定权. 退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响.
,
2019, 68(11): 114208.
doi: 10.7498/aps.68.20182247
|
| [2] |
康朝阳, 唐军, 李利民, 闫文盛, 徐彭寿, 韦世强. SiO2/Si衬底上石墨烯的制备与结构表征.
,
2012, 61(3): 037302.
doi: 10.7498/aps.61.037302
|
| [3] |
李志成, 刘斌, 张荣, 张曌, 陶涛, 谢自力, 陈鹏, 江若琏, 郑有炓, 姬小利. 紫外波段SiO2/Si3N4介质膜分布式布拉格反射镜的制备与研究.
,
2012, 61(8): 087802.
doi: 10.7498/aps.61.087802
|
| [4] |
马小凤, 王懿喆, 周呈悦. a-Si ∶H/SiO2多量子阱材料制备及其光学性能和微结构研究.
,
2011, 60(6): 068102.
doi: 10.7498/aps.60.068102
|
| [5] |
周鸿娟, 甄聪棉, 张永进, 赵翠莲, 马丽, 侯登录. N掺杂SiO2纳米薄膜的制备及其磁性.
,
2010, 59(5): 3499-3503.
doi: 10.7498/aps.59.3499
|
| [6] |
姜海青, 姚 熹, 车 俊, 汪敏强. ZnSe/SiO2复合薄膜光学常数与荧光光谱的研究.
,
2006, 55(4): 2084-2091.
doi: 10.7498/aps.55.2084
|
| [7] |
张 芸, 张波萍, 焦力实, 李向阳. Au/SiO2纳米复合薄膜的微结构及光吸收特性研究.
,
2006, 55(4): 2078-2083.
doi: 10.7498/aps.55.2078
|
| [8] |
曹 博, 包良满, 李公平, 何山虎. Cu/SiO2/Si(111)体系中Cu和Si的扩散及界面反应.
,
2006, 55(12): 6550-6555.
doi: 10.7498/aps.55.6550
|
| [9] |
陈长勇, 陈维德, 王永谦, 宋淑芳, 许振嘉. 掺铒nc-Si/SiO2薄膜中nc-Si和Er3+与非辐射复合缺陷间相互作用对薄膜发光特性的影响.
,
2003, 52(3): 736-739.
doi: 10.7498/aps.52.736
|
| [10] |
吴广明, 鲁鸿雁, 王珏, 沈军, 周斌, 张勤远, 邓忠生. SiO2气凝胶薄膜常压制备与强化研究.
,
2002, 51(1): 104-110.
doi: 10.7498/aps.51.104
|
| [11] |
张晓青, G.M.SESSLER, 夏钟福, 张冶文. Si基Si3N4/SiO2双层膜驻极体的电荷储存与输运.
,
2001, 50(2): 293-298.
doi: 10.7498/aps.50.293
|
| [12] |
孙永科, 衡成林, 王孙涛, 秦国刚, 马振昌, 宗婉华. Au/(SiO2/Si/SiO2)纳米双势垒/n+-Si结构的电致发光研究.
,
2000, 49(7): 1404-1408.
doi: 10.7498/aps.49.1404
|
| [13] |
刘宁宁, 孙甲明, 潘少华, 陈正豪, 王荣平, 师文生, 王晓光. 非晶Si/SiO2超晶格的制备及其光谱研究.
,
2000, 49(5): 1019-1022.
doi: 10.7498/aps.49.1019
|
| [14] |
翟光杰, 杨建树, 陈显邦, 王学森. Si(111)表面在NH3气氛下形成Si3N4薄膜的STM研究.
,
2000, 49(2): 215-219.
doi: 10.7498/aps.49.215
|
| [15] |
陈开茅, 金泗轩, 武兰青, 曾树荣, 刘鸿飞. 在p型硅MOS结构Si/SiO2界面区中与金有关的界面态和深能级.
,
1993, 42(8): 1324-1332.
doi: 10.7498/aps.42.1324
|
| [16] |
胡长武, 俞立民, 徐颖, 朱昂如, 王兆永. NH3在Cu及其氧化表面物理吸附的光声振动谱研究.
,
1992, 41(7): 1119-1124.
doi: 10.7498/aps.41.1119
|
| [17] |
陈开茅, 武兰青, 彭清智, 刘鸿飞. p型硅MOS结构Si/SiO2界面及其附近的深能级与界面态.
,
1992, 41(11): 1870-1879.
doi: 10.7498/aps.41.1870
|
| [18] |
刘志宏, 陈蒲生, 刘百勇, 郑耀宗. 150?快速热氮化SiO2膜的击穿特性.
,
1991, 40(1): 154-160.
doi: 10.7498/aps.40.154
|
| [19] |
陈存礼；周衡南；曹明珠；蒋宏伟；徐伟文；郭玲；黄敏. SiO_2上共溅射W-Si薄膜退火后的X射线衍射研究.
,
1989, 38(8): 1379-1383.
doi: 10.7498/aps.38.1379
|
| [20] |
李思渊, 张同军, 王毓珍, 李寿嵩, 殷之平. 无金和掺金Si-SiO2界面的氧退火特性.
,
1985, 34(6): 715-724.
doi: 10.7498/aps.34.715
|
下载:
