| [1] |
袁国亮, 王琛皓, 唐文彬, 张睿, 陆旭兵. HfO2基铁电薄膜的结构、性能调控及典型器件应用.
,
2023, 72(9): 097703.
doi: 10.7498/aps.72.20222221
|
| [2] |
曹宇, 张建军, 严干贵, 倪牮, 李天微, 黄振华, 赵颖. 电极间距对μc-Si1-xGex：H薄膜结构特性的影响.
,
2014, 63(7): 076801.
doi: 10.7498/aps.63.076801
|
| [3] |
贾晓琴, 何智兵, 牛忠彩, 何小珊, 韦建军, 李蕊, 杜凯. 热处理对制备辉光放电聚合物薄膜结构及光学性能的影响.
,
2013, 62(5): 056804.
doi: 10.7498/aps.62.056804
|
| [4] |
王淑芳, 陈珊珊, 陈景春, 闫国英, 乔小齐, 刘富强, 王江龙, 丁学成, 傅广生. 脉冲激光沉积温度及氧压对Bi2Sr2Co2Oy热电薄膜晶体结构与电输运性能的影响.
,
2012, 61(6): 066804.
doi: 10.7498/aps.61.066804
|
| [5] |
周静, 刘存金, 李儒, 陈文. 异质界面对Ca(Mg1/3Nb2/3)O3/CaTiO3叠层薄膜结构和介电性能的影响.
,
2012, 61(6): 067401.
doi: 10.7498/aps.61.067401
|
| [6] |
张玲, 何智兵, 廖国, 谌家军, 许华, 李俊. B掺杂对Ti薄膜结构与性能的影响.
,
2012, 61(18): 186803.
doi: 10.7498/aps.61.186803
|
| [7] |
罗庆洪, 娄艳芝, 赵振业, 杨会生. 退火对AlTiN多层薄膜结构及力学性能影响.
,
2011, 60(6): 066201.
doi: 10.7498/aps.60.066201
|
| [8] |
吕业刚, 梁晓琳, 谭永宏, 郑学军, 龚跃球, 何林. 微结构对Eu掺杂Bi4Ti3O12铁电薄膜铁电性能的影响.
,
2011, 60(2): 027701.
doi: 10.7498/aps.60.027701
|
| [9] |
吕业刚, 梁晓琳, 龚跃球, 郑学军, 刘志壮. 外加电场对铁电薄膜相变的影响.
,
2010, 59(11): 8167-8171.
doi: 10.7498/aps.59.8167
|
| [10] |
仲政祥, 郑家贵, 钟永强, 杨帆, 冯良桓, 蔡伟, 蔡亚平, 张静全, 黎兵, 雷智, 李卫, 武莉莉. 沉积条件对ZnTe/ZnTe:Cu薄膜结构及CdTe电池性能的影响.
,
2009, 58(7): 4920-4924.
doi: 10.7498/aps.58.4920
|
| [11] |
王伟娜, 方庆清, 周军, 王胜男, 闫方亮, 刘艳美, 李雁, 吕庆荣. 制备工艺对Zn1-xMgxO薄膜结构及光学性能的影响.
,
2009, 58(5): 3461-3467.
doi: 10.7498/aps.58.3461
|
| [12] |
丁万昱, 王华林, 苗壮, 张俊计, 柴卫平. 沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响.
,
2009, 58(1): 432-437.
doi: 10.7498/aps.58.432
|
| [13] |
李建军, 于军, 李佳, 杨卫明, 吴云翼, 王耘波. 退火气压对Bi3.25La0.75Ti3O12铁电薄膜的微观结构和铁电性能的影响.
,
2009, 58(2): 1246-1251.
doi: 10.7498/aps.58.1246
|
| [14] |
许军, 黄宇健, 丁士进, 张卫. Ta和TaN底电极对原子层淀积HfO2介质MIM电性能的影响.
,
2009, 58(5): 3433-3436.
doi: 10.7498/aps.58.3433
|
| [15] |
周歧刚, 翟继卫, 姚 熹. 杂质分布设计对钛酸锶钡薄膜结构和性能的影响.
,
2007, 56(11): 6666-6673.
doi: 10.7498/aps.56.6666
|
| [16] |
卫永霞, 钱晓梅, 俞笑竹, 叶 超, 宁兆元, 梁荣庆. O2掺杂对SiCOH低k薄膜结构与电学性能的影响.
,
2007, 56(2): 1172-1176.
doi: 10.7498/aps.56.1172
|
| [17] |
杨景景, 方庆清, 王保明, 王翠平, 周 军, 李 雁, 刘艳美, 吕庆荣. Co掺杂对ZnO薄膜结构和性能的影响.
,
2007, 56(2): 1116-1120.
doi: 10.7498/aps.56.1116
|
| [18] |
谭丛兵, 钟向丽, 王金斌, 廖 敏, 周益春, 潘 伟. Nd掺杂对Bi4Ti3O12铁电薄膜的微结构和铁电性能的影响.
,
2007, 56(10): 6084-6089.
doi: 10.7498/aps.56.6084
|
| [19] |
李红轩, 徐 洮, 陈建敏, 周惠娣, 刘惠文. 射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响.
,
2005, 54(4): 1885-1889.
doi: 10.7498/aps.54.1885
|
| [20] |
俞笑竹, 王婷婷, 叶 超, 宁兆元. 掺CH4的SiCOH低介电常数薄膜结构与介电性能研究.
,
2005, 54(11): 5417-5421.
doi: 10.7498/aps.54.5417
|
下载:
