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基片温度与氧分压对磁控溅射制备氧化钒薄膜的影响

张 辉 刘应书 刘文海 王宝义 魏 龙

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基片温度与氧分压对磁控溅射制备氧化钒薄膜的影响

张 辉, 刘应书, 刘文海, 王宝义, 魏 龙

The effect of temperature of substrate and oxygen partial pressure on V2O5 films fabricated by magnetron sputtering

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出版历程
  • 收稿日期:  2007-03-18
  • 修回日期:  2007-07-05
  • 刊出日期:  2007-06-05

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