[1] |
朱伟君, 陈金鑫, 高宇晗, 杨德仁, 马向阳. 硅基掺铒二氧化钛薄膜发光器件的电致发光: 共掺镱的增强发光作用.
,
2019, 68(12): 124204.
doi: 10.7498/aps.68.20190300
|
[2] |
范志东, 周子淳, 刘绰, 马蕾, 彭英才. Eu掺杂Si纳米线的光致发光特性.
,
2015, 64(14): 148103.
doi: 10.7498/aps.64.148103
|
[3] |
王健, 谢自力, 张荣, 张韵, 刘斌, 陈鹏, 韩平. InN的光致发光特性研究.
,
2013, 62(11): 117802.
doi: 10.7498/aps.62.117802
|
[4] |
邓泉, 马勇, 杨晓红, 叶利娟, 张学忠, 张起, 付宏伟. ZnO:Sb薄膜的光致发光及拉曼特性研究.
,
2012, 61(24): 247701.
doi: 10.7498/aps.61.247701
|
[5] |
方庆清, 王伟娜, 周军, 王胜男, 闫方亮, 刘艳美, 李雁, 吕庆荣. Zn1-xMgxO薄膜的光致发光特性研究.
,
2009, 58(8): 5836-5841.
doi: 10.7498/aps.58.5836
|
[6] |
郑立仁, 黄柏标, 尉吉勇. 不同气氛下SiOx纳米线的制备及形貌、红外、光致发光研究.
,
2009, 58(4): 2306-2312.
doi: 10.7498/aps.58.2306
|
[7] |
唐 斌, 邓 宏, 税正伟, 韦 敏, 陈金菊, 郝 昕. 掺AlZnO纳米线阵列的光致发光特性研究.
,
2007, 56(9): 5176-5179.
doi: 10.7498/aps.56.5176
|
[8] |
袁艳红, 侯 洵, 高 恒. 超声处理对ZnO薄膜光致发光特性的影响.
,
2006, 55(1): 446-449.
doi: 10.7498/aps.55.446
|
[9] |
温 磊, 张丽艳, 杨建虎, 汪国年, 陈 伟, 胡丽丽. 掺铒氟(卤)磷碲酸盐玻璃的上转换发光性能研究.
,
2006, 55(3): 1486-1490.
doi: 10.7498/aps.55.1486
|
[10] |
李善锋, 张庆瑜. Er/Yb共掺硅酸盐玻璃的光致发光.
,
2005, 54(11): 5462-5467.
doi: 10.7498/aps.54.5462
|
[11] |
纪爱玲, 马利波, 刘 澂, 王永谦. 纳米Si-SiOx和Si-SiNx复合薄膜的低温制备及其发光特性.
,
2004, 53(11): 3818-3822.
doi: 10.7498/aps.53.3818
|
[12] |
张喜田, 肖芝燕, 张伟力, 高 红, 王玉玺, 刘益春, 张吉英, 许 武. 高质量纳米ZnO薄膜的光致发光特性研究.
,
2003, 52(3): 740-744.
doi: 10.7498/aps.52.740
|
[13] |
宋淑芳, 周生强, 陈维德, 朱建军, 陈长勇, 许振嘉. 掺铒GaN薄膜的背散射/沟道分析和光致发光研究.
,
2003, 52(10): 2558-2562.
doi: 10.7498/aps.52.2558
|
[14] |
肖志松, 徐飞, 张通和, 程国安, 顾岚岚. 掺铒硅基材料发光的新途径.
,
2001, 50(1): 164-168.
doi: 10.7498/aps.50.164
|
[15] |
顾岚岚, 熊祖洪, 陈刚, 徐少辉. 掺铒硅多孔化后的光致发光特性.
,
2000, 49(2): 383-388.
doi: 10.7498/aps.49.383
|
[16] |
柳兆洪, 江炳熙, 陈谋智, 刘瑞堂. 掺铒硫化锌薄膜电致发光的动态特性.
,
1999, 48(9): 1767-1772.
doi: 10.7498/aps.48.1767
|
[17] |
刘 明, 何宇亮, 江兴流, 李国华, 韩和相. 纳米硅薄膜的光致发光特性.
,
1998, 47(5): 864-870.
doi: 10.7498/aps.47.864
|
[18] |
雷红兵, 杨沁清, 王启明. 掺铒硅发光的晶场分裂.
,
1998, 47(7): 1201-1206.
doi: 10.7498/aps.47.1201
|
[19] |
马智训, 廖显伯, 何 杰, 程文超, 岳国珍, 王永谦, 刁宏伟, 孔光临. SiOx∶H(0<x<2)薄膜光致发光的退火行为研究.
,
1998, 47(6): 1033-1040.
doi: 10.7498/aps.47.1033
|
[20] |
胡恺生, 李宗祥, 宁鼎, 李浩, 周建平, 刘全民. 电子辐照对掺铒单模光纤损耗特性的影响.
,
1991, 40(4): 560-567.
doi: 10.7498/aps.40.560
|