[1] |
刘强, 倪尧, 刘璐, 孙林, 刘甲奇, 徐文涛. 基于层状多元金属氧化物的人造突触.
,
2022, 71(14): 148501.
doi: 10.7498/aps.71.20220303
|
[2] |
裴明辉, 田瑜, 张金星. 钙钛矿型铁电氧化物表面结构与功能的控制及其潜在应用.
,
2020, 69(21): 217709.
doi: 10.7498/aps.69.20200884
|
[3] |
张宁, 徐开凯, 陈彦旭, 朱坤峰, 赵建明, 于奇. 金属-氧化物-半导体硅发光器件在集成电路中的应用前景.
,
2019, 68(16): 167803.
doi: 10.7498/aps.68.20191004
|
[4] |
赵逸涵, 段宝兴, 袁嵩, 吕建梅, 杨银堂. 具有纵向辅助耗尽衬底层的新型横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管.
,
2017, 66(7): 077302.
doi: 10.7498/aps.66.077302
|
[5] |
张镜水, 孔令琴, 董立泉, 刘明, 左剑, 张存林, 赵跃进. 太赫兹互补金属氧化物半导体场效应管探测器理论模型中扩散效应研究.
,
2017, 66(12): 127302.
doi: 10.7498/aps.66.127302
|
[6] |
杜永平, 刘慧美, 万贤纲. 5d过渡金属氧化物中的奇异量子物性研究.
,
2015, 64(18): 187201.
doi: 10.7498/aps.64.187201
|
[7] |
杨帅, 汤晓燕, 张玉明, 宋庆文, 张义门. 电荷失配对SiC半超结垂直双扩散金属氧化物半导体场效应管击穿电压的影响.
,
2014, 63(20): 208501.
doi: 10.7498/aps.63.208501
|
[8] |
王春华, 徐浩, 万钊, 胡燕. 基于金属氧化物半导体晶体管Colpitts混沌振荡电路及其同步研究.
,
2013, 62(20): 208401.
doi: 10.7498/aps.62.208401
|
[9] |
许立军, 张鹤鸣. 环栅肖特基势垒金属氧化物半导体场效应管漏致势垒降低效应研究.
,
2013, 62(10): 108502.
doi: 10.7498/aps.62.108502
|
[10] |
王晓艳, 张鹤鸣, 王冠宇, 宋建军, 秦珊珊, 屈江涛. 漏致势垒降低效应对短沟道应变硅金属氧化物半导体场效应管阈值电压的影响.
,
2011, 60(2): 027102.
doi: 10.7498/aps.60.027102
|
[11] |
姚蕊, 王福合, 周云松. 氧原子在Zr(0001)表面附近的扩散.
,
2009, 58(13): 177-S182.
doi: 10.7498/aps.58.177
|
[12] |
刘秀喜, 王公堂. 有机硅化合物-金属氧化物绝缘保护材料在制造高压晶闸管中的应用研究.
,
2008, 57(1): 576-580.
doi: 10.7498/aps.57.576
|
[13] |
李佳阳, 李融武, 孙俊东, 刘绍军. 异质扩散过程中ES势垒的计算.
,
2007, 56(1): 446-451.
doi: 10.7498/aps.56.446
|
[14] |
曾中明, 韩秀峰, 杜关祥, 詹文山, 王 勇, 张 泽. 双势垒磁性隧道结的磁电阻效应及其在自旋晶体管中的应用.
,
2005, 54(7): 3351-3356.
doi: 10.7498/aps.54.3351
|
[15] |
李 雅, 陈玲燕, 张 哲, 吴永刚, 乔 轶, 徐炜新. XPS研究Nd表面氧化物的生长过程.
,
2001, 50(1): 79-82.
doi: 10.7498/aps.50.79
|
[16] |
王剑屏, 徐娜军, 张廷庆, 汤华莲, 刘家璐, 刘传洋, 姚育娟, 彭宏论, 何宝平, 张正选. 金属-氧化物-半导体器件γ辐照温度效应.
,
2000, 49(7): 1331-1334.
doi: 10.7498/aps.49.1331
|
[17] |
肖定全, 韦力凡, 李子森, 朱建国, 钱正洪, 彭文斌. 金属氧化物薄膜的多离子束反应共溅射模型(Ⅱ)——数值计算与结果讨论.
,
1996, 45(2): 345-352.
doi: 10.7498/aps.45.345
|
[18] |
康晋锋, 陈新, 王佑祥, 韩汝琦, 熊光成, 连贵君, 李杰, 吴思诚. 正常态金属与氧化物高温超导薄膜界面扩散特性分析.
,
1995, 44(11): 1831-1838.
doi: 10.7498/aps.44.1831
|
[19] |
王偕文, 吴思诚. 氮化铌表面氧化物的XPS研究.
,
1985, 34(1): 112-116.
doi: 10.7498/aps.34.112
|
[20] |
李克诚, 薛士蓥, 祝忠德, 黄詠. 磷在硅表面氧化层中的扩散.
,
1965, 21(3): 496-502.
doi: 10.7498/aps.21.496
|