[1] |
冯婕, 郭强, 舒鹏丽, 温阳, 温焕飞, 马宗敏, 李艳君, 刘俊, 伊戈尔·弗拉基米罗维奇·雅明斯基. 超高真空原子尺度Aux/Si(111)-(7×7)表面吸附的电荷分布测量.
,
2023, 72(11): 110701.
doi: 10.7498/aps.72.20230051
|
[2] |
王慧云, 冯婕, 王旭东, 温阳, 魏久焱, 温焕飞, 石云波, 马宗敏, 李艳君, 刘俊. 室温超高真空环境原子尺度Au/Si(111)-(7×7)不定域吸附的局域接触势能差测量技术.
,
2022, 71(6): 060702.
doi: 10.7498/aps.71.20211853
|
[3] |
赵明海, 孙静静, 王丹, 邹志强, 梁齐. C60分子在Si(111)-7×7表面分子束外延生长的STM研究.
,
2010, 59(1): 636-642.
doi: 10.7498/aps.59.636
|
[4] |
许桂贵, 吴青云, 张健敏, 陈志高, 黄志高. 第一性原理研究氧在Ni(111)表面上的吸附能及功函数.
,
2009, 58(3): 1924-1930.
doi: 10.7498/aps.58.1924
|
[5] |
闫隆, 张永平, 彭毅萍, 庞世谨, 高鸿钧. 在Si(111)-(7×7)表面自组织生长二维Ge团簇超晶格.
,
2002, 51(5): 1017-1021.
doi: 10.7498/aps.51.1017
|
[6] |
张永平, 闫隆, 解思深, 庞世谨, 高鸿钧. Si(111)-(7×7)表面上Ge量子点的自组织生长.
,
2002, 51(2): 296-299.
doi: 10.7498/aps.51.296
|
[7] |
闫隆, 张永平, 彭毅萍, 庞世谨, 高鸿钧. Ge在Si(111)7×7表面的选择性吸附.
,
2001, 50(11): 2132-2136.
doi: 10.7498/aps.50.2132
|
[8] |
李群祥, 杨金龙, 丁长庚, 汪克林, 李家明. STM针尖和外电场在Si(111)-7×7表面单原子操纵中的作用.
,
1999, 48(6): 1086-1094.
doi: 10.7498/aps.48.1086
|
[9] |
乔皓, 张开明. 碱金属在GaAs(110)表面上的吸附.
,
1991, 40(11): 1840-1845.
doi: 10.7498/aps.40.1840
|
[10] |
杨宗献, 张涛. CO和O在无序二元合金NiCu表面上的化学吸附.
,
1991, 40(2): 269-274.
doi: 10.7498/aps.40.269
|
[11] |
蓝田, 徐飞岳. 用低能电子衍射研究Si(111)7×7表面的原子结构.
,
1989, 38(7): 1077-1085.
doi: 10.7498/aps.38.1077
|
[12] |
樊永年. 碳在钼(100)和钼(111)表面上的超结构.
,
1988, 37(2): 305-310.
doi: 10.7498/aps.37.305
|
[13] |
王向东, 胡际璜, 戴道宣. Si(111)7×7清洁表面的总电流谱.
,
1988, 37(11): 1888-1892.
doi: 10.7498/aps.37.1888
|
[14] |
董国胜, 丁训民, 侯晓远, 王迅. 水汽在淀积金属钠的InP(111)表面的吸附.
,
1987, 36(4): 495-500.
doi: 10.7498/aps.36.495
|
[15] |
侯晓远;杨曙;董国胜;丁训民;王迅. 用HREELS研究氢在GaAs和InP的(111),(III)表面上的吸附.
,
1987, 36(8): 1070-1074.
doi: 10.7498/aps.36.1070
|
[16] |
樊永年. 硫偏析在钼(111)表面上的有序结构.
,
1986, 35(5): 667-671.
doi: 10.7498/aps.35.667
|
[17] |
邢益荣, W. RANKE. 氧在硅表面上吸附的晶向关系.
,
1986, 35(1): 110-114.
doi: 10.7498/aps.35.110
|
[18] |
屠礼勋, 孙玉珍. Ga在Ni(111)表面上形成的超结构.
,
1985, 34(7): 964-967.
doi: 10.7498/aps.34.964
|
[19] |
徐永年, 张开明. Ⅶ族元素在Si(111)和Ge(111)表面上的吸附.
,
1984, 33(11): 1619-1623.
doi: 10.7498/aps.33.1619
|
[20] |
张开明, 叶令. CI在Si和Ge(111)面上的化学吸附.
,
1980, 29(12): 1596-1603.
doi: 10.7498/aps.29.1596
|