非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究 -

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非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

, 2002, 51(5): 999-1003.

DOI: 10.7498/aps.51.999

CSTR: 32037.14.aps.51.999

Acta Phys. Sin., 2002, 51(5): 999-1003.

DOI: 10.7498/aps.51.999

CSTR: 32037.14.aps.51.999

摘要
用原子力显微镜测定了SiTiNPd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni13.1wt%Cu9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的

关键词:
多重分形谱 /

Ni-Cu-P合金 /

化学沉积 /

AFM图像
Abstract
Keywords:
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作者及机构信息
于会生,

孙霞,

罗守福,

王永瑞,

吴自勤
Authors and contacts
参考文献

施引文献

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