| [1] |
谭再上, 吴小蒙, 范仲勇, 丁士进. 热退火对等离子体增强化学气相沉积SiCOH薄膜结构与性能的影响.
,
2015, 64(10): 107701.
doi: 10.7498/aps.64.107701
|
| [2] |
何素明, 戴珊珊, 罗向东, 张波, 王金斌. 等离子体增强化学气相沉积工艺制备SiON膜及对硅的钝化.
,
2014, 63(12): 128102.
doi: 10.7498/aps.63.128102
|
| [3] |
侯国付, 薛俊明, 袁育杰, 张晓丹, 孙建, 陈新亮, 耿新华, 赵颖. 高压射频等离子体增强化学气相沉积制备高效率硅薄膜电池的若干关键问题研究.
,
2012, 61(5): 058403.
doi: 10.7498/aps.61.058403
|
| [4] |
高海波, 李瑞, 卢景霄, 王果, 李新利, 焦岳超. 分步法高速沉积微晶硅薄膜.
,
2012, 61(1): 018101.
doi: 10.7498/aps.61.018101
|
| [5] |
丁艳丽, 朱志立, 谷锦华, 史新伟, 杨仕娥, 郜小勇, 陈永生, 卢景霄. 沉积速率对甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜生长标度行为的影响.
,
2010, 59(2): 1190-1195.
doi: 10.7498/aps.59.1190
|
| [6] |
王光红, 张晓丹, 许盛之, 孙福河, 岳强, 魏长春, 孙建, 耿新华, 熊绍珍, 赵颖. p种子层对单室制备微晶硅电池性能的影响.
,
2009, 58(10): 7294-7299.
doi: 10.7498/aps.58.7294
|
| [7] |
孙福河, 张晓丹, 王光红, 许盛之, 岳强, 魏长春, 孙建, 耿新华, 熊绍珍, 赵颖. 硼对沉积本征微晶硅薄膜特性的影响.
,
2009, 58(2): 1293-1297.
doi: 10.7498/aps.58.1293
|
| [8] |
郭学军, 卢景霄, 陈永生, 张庆丰, 文书堂, 郑 文, 申陈海, 陈庆东. 甚高频高速沉积微晶硅薄膜的研究.
,
2008, 57(9): 6002-6006.
doi: 10.7498/aps.57.6002
|
| [9] |
韩晓艳, 侯国付, 李贵君, 张晓丹, 袁育杰, 张德坤, 陈新亮, 魏长春, 孙 健, 耿新华. 低速p/i界面缓冲层对高速沉积微晶硅太阳电池性能的影响.
,
2008, 57(8): 5284-5289.
doi: 10.7498/aps.57.5284
|
| [10] |
葛 洪, 张晓丹, 岳 强, 赵 静, 赵 颖. 甚高频等离子体增强化学气相沉积大面积平行板电极间真空电势差分布研究.
,
2008, 57(8): 5105-5110.
doi: 10.7498/aps.57.5105
|
| [11] |
陈永生, 郜小勇, 杨仕娥, 卢景霄, 谷锦华. 沉积温度对微晶硅薄膜结构特性的影响.
,
2007, 56(7): 4122-4126.
doi: 10.7498/aps.56.4122
|
| [12] |
刘国汉, 丁 毅, 朱秀红, 陈光华, 贺德衍. HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究.
,
2006, 55(11): 6147-6151.
doi: 10.7498/aps.55.6147
|
| [13] |
张晓丹, 赵 颖, 高艳涛, 朱 锋, 魏长春, 孙 建, 耿新华, 熊绍珍. 微晶硅薄膜的制备及结构和稳定性研究.
,
2005, 54(8): 3910-3914.
doi: 10.7498/aps.54.3910
|
| [14] |
张晓丹, 赵 颖, 朱 锋, 魏长春, 吴春亚, 高艳涛, 侯国付, 孙 建, 耿新华, 熊绍珍. VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究.
,
2005, 54(1): 445-449.
doi: 10.7498/aps.54.445
|
| [15] |
张晓丹, 赵 颖, 高艳涛, 朱 锋, 魏长春, 孙 建, 王 岩, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅太阳电池的研究.
,
2005, 54(4): 1899-1903.
doi: 10.7498/aps.54.1899
|
| [16] |
张晓丹, 赵 颖, 朱 锋, 魏长春, 麦耀华, 高艳涛, 孙 建, 耿新华, 熊绍珍. 二次离子质谱深度剖面分析氢化微晶硅薄膜中的氧污染.
,
2005, 54(4): 1895-1898.
doi: 10.7498/aps.54.1895
|
| [17] |
曾湘波, 廖显伯, 王 博, 刁宏伟, 戴松涛, 向贤碧, 常秀兰, 徐艳月, 胡志华, 郝会颖, 孔光临. 等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼.
,
2004, 53(12): 4410-4413.
doi: 10.7498/aps.53.4410
|
| [18] |
于 威, 刘丽辉, 侯海虹, 丁学成, 韩 理, 傅广生. 螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜.
,
2003, 52(3): 687-691.
doi: 10.7498/aps.52.687
|
| [19] |
叶超, 宁兆元, 程珊华, 康健. 微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氟化非晶碳薄膜的研究.
,
2001, 50(4): 784-789.
doi: 10.7498/aps.50.784
|
| [20] |
宁兆元, 程珊华, 叶超. 电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构.
,
2001, 50(3): 566-571.
doi: 10.7498/aps.50.566
|
下载:
