| [1] |
方家, 李双亮, 许盛之, 魏长春, 赵颖, 张晓丹. 高速微晶硅薄膜沉积过程中的等离子体稳态研究.
,
2013, 62(16): 168103.
doi: 10.7498/aps.62.168103
|
| [2] |
羊梦诗, 李鑫, 叶志鹏, 陈亮, 徐灿, 储修祥. 丝素氨基酸寡肽链生长过程中的尺寸效应.
,
2013, 62(23): 236101.
doi: 10.7498/aps.62.236101
|
| [3] |
左应红, 王建国, 范如玉. 二极管间隙距离对场致发射过程中空间电荷效应的影响.
,
2012, 61(21): 215202.
doi: 10.7498/aps.61.215202
|
| [4] |
李天微, 刘丰珍, 朱美芳. 射频激发热丝化学气相沉积制备硅薄膜过程中光发射谱的研究.
,
2011, 60(1): 018103.
doi: 10.7498/aps.60.018103
|
| [5] |
张林, 徐送宁, 李蔚, 孙海霞, 张彩碚. 小尺寸铜团簇冷却与并合过程中结构变化的原子尺度研究.
,
2009, 58(13): 58-S66.
doi: 10.7498/aps.58.58
|
| [6] |
桑萃萃, 万建杰, 董晨钟, 丁晓彬, 蒋 军. 锂原子光电离过程中的弛豫效应.
,
2008, 57(4): 2152-2160.
doi: 10.7498/aps.57.2152
|
| [7] |
王立世, 潘春旭, 蔡启舟, 魏伯康. 等离子体电解氧化过程中单个稳态微放电的热效应研究.
,
2007, 56(9): 5341-5346.
doi: 10.7498/aps.56.5341
|
| [8] |
高学鹏, 李新涛, 郄喜望, 吴亚萍, 李喜孟, 李廷举. 功率超声对Al-Si合金凝固过程中溶质偏析的抑制效应.
,
2007, 56(2): 1188-1194.
doi: 10.7498/aps.56.1188
|
| [9] |
侯国付, 薛俊明, 孙 建, 郭群超, 张德坤, 任慧志, 赵 颖, 耿新华, 李乙钢. 高压PECVD技术沉积硅基薄膜过程中硅烷状态的研究.
,
2007, 56(2): 1177-1181.
doi: 10.7498/aps.56.1177
|
| [10] |
高永华, 赵志恒, 侯召宇, 曹鹤飞, 段春贵, 何祯民. 改进的核密度模型与强子-核Drell-Yan过程中的核效应.
,
2006, 55(11): 5760-5763.
doi: 10.7498/aps.55.5760
|
| [11] |
燕 飞, 张 杰, 鲁 欣. x射线激光传输过程中的折射和饱和效应.
,
2005, 54(2): 715-720.
doi: 10.7498/aps.54.715
|
| [12] |
彭爱华, 谢二庆, 贾昌文, 蒋 然, 林洪峰, 贺德衍. 稀土掺杂多孔硅的蓝光发射.
,
2004, 53(5): 1562-1566.
doi: 10.7498/aps.53.1562
|
| [13] |
蒋 乐, 杨德仁, 余学功, 马向阳, 徐 进, 阙端麟. 直拉硅中氮在高温退火过程中对氧沉淀的影响.
,
2003, 52(8): 2000-2004.
doi: 10.7498/aps.52.2000
|
| [14] |
刘小兵, 熊祖洪, 袁 帅, 陈彦东, 何 钧, 廖良生, 丁训民, 侯晓远. 多孔硅光致发光的温度效应研究.
,
1998, 47(8): 1391-1396.
doi: 10.7498/aps.47.1391
|
| [15] |
李 鹏, 马玉蓉, 方容川, 胡克良. 激光辅助阳极化制备多孔硅的蓝光发射与红外研究.
,
1998, 47(1): 124-130.
doi: 10.7498/aps.47.124
|
| [16] |
资剑, 张开明. 多孔硅尺寸的理论研究.
,
1997, 46(2): 340-344.
doi: 10.7498/aps.46.340
|
| [17] |
李谷波, 张甫龙, 范洪雷, 陈华杰, 俞鸣人, 侯晓远. 获得多孔硅蓝绿光发射的新方法.
,
1996, 45(9): 1586-1591.
doi: 10.7498/aps.45.1586
|
| [18] |
林军, 张丽珠, 陈志坚, 宋海智, 姚德成, 段家忯, 傅济时, 张伯蕊, 秦国刚. 多孔硅蓝光发射与发光机制.
,
1996, 45(1): 121-125.
doi: 10.7498/aps.45.121
|
| [19] |
潘必才, 夏上达. 多孔硅制备过程中B,P杂质原子的作用.
,
1995, 44(5): 745-754.
doi: 10.7498/aps.44.745
|
| [20] |
何宇亮, 周衡南, 刘湘娜, 程光煦, 余是东. 非晶硅薄膜晶化过程中微结构的分析.
,
1990, 39(11): 1796-1802.
doi: 10.7498/aps.39.1796
|
下载:
