[1] |
刘雪璐, 吴江滨, 罗向东, 谭平恒. 半绝缘GaAs的双调制反射光谱研究.
,
2017, 66(14): 147801.
doi: 10.7498/aps.66.147801
|
[2] |
曹震, 段宝兴, 袁小宁, 杨银堂. 具有半绝缘多晶硅完全三维超结横向功率器件.
,
2015, 64(18): 187303.
doi: 10.7498/aps.64.187303
|
[3] |
施卫, 马湘蓉, 薛红. 半绝缘GaAs光电导开关的瞬态热效应.
,
2010, 59(8): 5700-5705.
doi: 10.7498/aps.59.5700
|
[4] |
施卫, 薛红, 马湘蓉. 半绝缘GaAs光电导开关体内热电子的光电导振荡特性.
,
2009, 58(12): 8554-8559.
doi: 10.7498/aps.58.8554
|
[5] |
施卫, 屈光辉, 王馨梅. 半绝缘GaAs光电导开关非线性电脉冲超快上升特性研究.
,
2009, 58(1): 477-481.
doi: 10.7498/aps.58.477
|
[6] |
贾婉丽, 纪卫莉, 施 卫. 半绝缘GaAs光电导开关产生太赫兹波电场屏蔽效应的二维Monte Carlo模拟.
,
2007, 56(4): 2042-2046.
doi: 10.7498/aps.56.2042
|
[7] |
包志华, 景为平, 罗向东, 谭平恒. 显微光谱研究半绝缘GaAs带边以上E0+Δ0光学性质.
,
2007, 56(7): 4213-4217.
doi: 10.7498/aps.56.4213
|
[8] |
杨 俊, 赵有文, 董志远, 邓爱红, 苗杉杉, 王 博. 深能级缺陷对半绝缘InP材料电学补偿的影响.
,
2007, 56(2): 1167-1171.
doi: 10.7498/aps.56.1167
|
[9] |
宋淑芳, 陈维德, 许振嘉, 徐叙瑢. 掺Er/Pr的GaN薄膜深能级的研究.
,
2006, 55(3): 1407-1412.
doi: 10.7498/aps.55.1407
|
[10] |
张兴宏, 胡雨生, 吴 杰, 程知群, 夏冠群, 徐元森, 陈张海, 桂永胜, 褚君浩. 深能级对AlGaInP/GaAs异质结双极晶体管性能的影响.
,
1999, 48(3): 556-560.
doi: 10.7498/aps.48.556
|
[11] |
陈开茅, 金泗轩, 贾勇强, 邱素娟, 吕云安, 何梅芬, 刘鸿飞. 注氮GaAs中的深能级及其对自由载流子的补偿.
,
1996, 45(3): 491-498.
doi: 10.7498/aps.45.491
|
[12] |
卢励吾, 周洁, 封松林, 钱照明, 彭青. 硅直接键合界面附近的深能级研究.
,
1994, 43(5): 785-789.
doi: 10.7498/aps.43.785
|
[13] |
陈开茅, 金泗轩, 邱素娟, 吕云安, 何梅芬, 兰李桥. 浅杂质注入LEC半绝缘GaAs γ射线辐照缺陷.
,
1994, 43(8): 1344-1351.
doi: 10.7498/aps.43.1344
|
[14] |
陈开茅, 金泗轩, 邱素娟. 少子陷阱特性和铍硅共注半绝缘GaAs空穴陷阱.
,
1994, 43(8): 1352-1359.
doi: 10.7498/aps.43.1352
|
[15] |
陈开茅, 金泗轩, 武兰青, 曾树荣, 刘鸿飞. 在p型硅MOS结构Si/SiO2界面区中与金有关的界面态和深能级.
,
1993, 42(8): 1324-1332.
doi: 10.7498/aps.42.1324
|
[16] |
乔皓, 徐至中, 张开明. 形变Si,Ge中的深能级.
,
1993, 42(11): 1830-1835.
doi: 10.7498/aps.42.1830
|
[17] |
陈开茅, 武兰青, 彭清智, 刘鸿飞. p型硅MOS结构Si/SiO2界面及其附近的深能级与界面态.
,
1992, 41(11): 1870-1879.
doi: 10.7498/aps.41.1870
|
[18] |
王渭源, 夏冠群, 卢建国, 邵永富, 乔墉. 掺Cr半绝缘GaAs中Si离子注入的载流子分布尾研究.
,
1985, 34(3): 402-407.
doi: 10.7498/aps.34.402
|
[19] |
杜永昌, 张玉峰, 秦国刚, 孟祥提. 中子辐照含氢硅中的与氢有关的深能级缺陷.
,
1984, 33(4): 477-485.
doi: 10.7498/aps.33.477
|
[20] |
王渭源, 乔墉, 林成鲁, 罗潮渭, 周永泉. 掺铬半绝缘砷化镓材料的硅离子注入.
,
1982, 31(1): 71-77.
doi: 10.7498/aps.31.71
|